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J-GLOBAL ID：200903096068615090

レジストパターン形成方法および現像装置

Inventor： 田中 稔彦 ,  小川 太郎 ,  森上 光章 ,  老泉 博昭
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社ソルテック
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993164416
Publication number (International publication number)：1995020637
Application date： Jul. 02, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 レジストパターン倒れを起こさないレジストパターン形成方法および現像装置を提供する。【構成】 現像液で現像し、液体のリンス液で現像液をリンスした後、リンス液を固相化し昇華させる。あるいは、現像液で現像し、液体のリンス液で現像液をリンスした後、リンス液を液体の置換液で置換し、この置換液を固相化し、さらに昇華させる。【効果】 レジストパターン、特に密集した微細なレジストパターンやアスペクト比の高いレジストパターンのパターン倒れを防止できる。

Claim (excerpt)：

レジスト膜に所望のパターンを露光する工程と、該レジスト膜を現像処理及びリンス処理する工程と、該リンス処理で付着したリンス液を固相化する工程と、該固相化したリンス液を昇華させることによりリンス液の乾燥を行う工程とを有することを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (2)：

G03F 7/30 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• レジスト現像方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-012184   Applicant：日本電気株式会社
• 特開昭62-031122
  
• 特開平4-134350
  
• レジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-083838   Applicant：株式会社ソルテック
• 特開昭63-184331
  
• レジストの現像・リンス方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-158928   Applicant：川崎製鉄株式会社