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J-GLOBAL ID:200903096205193220
三次元周期構造体および該三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
渡邉 昌幸
, 磯村 雅俊
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004349304
Publication number (International publication number):2006162638
Application date: Dec. 02, 2004
Publication date: Jun. 22, 2006
Summary:
【課題】 インバース構造において、欠陥ボリュームが制御された欠陥が導入された三次元フォトニック結晶などのための微粒子構造体、構造体全体の繰り返しを乱すことなく、局所的に欠陥が導入された周期的な微粒子構造体、このような三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器を提供すること。【解決手段】 材質a中に大きさの等しい複数の球状空間が三次元的に規則的に配列されており、該複数の球状空間のうちの選択された1以上の球状空間に材質aとは異なる材質b(例えば、芯粒子の材質b1と外殻の材質b2)が満たされた構造を有する三次元周期構造体である。材質b1の芯粒子は球形状を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
材質a中に大きさの等しい複数の球状空間が三次元的に規則的に配列されてなる三次元周期構造体であって、
前記複数の球状空間のうちの選択された1以上の球状空間に材質aとは異なる材質bが満たされていることを特徴とする三次元周期構造体。
IPC (2):
FI (4):
G02B1/02
, G02B6/12 Z
, G02B6/12 N
, G02B6/12 F
F-Term (3):
2H047KA03
, 2H047LA18
, 2H047QA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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特許第2905712号明細書
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フォトニック結晶およびフォトニック結晶層付基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-214165
Applicant:触媒化成工業株式会社, 谷口彬雄
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フォトニック結晶素子の作製方法及び作製装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-058659
Applicant:日本航空電子工業株式会社
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逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-180892
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー, 科学技術振興事業団
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光応答型液晶入りフォトニック結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-273142
Applicant:科学技術振興事業団, 財団法人神奈川科学技術アカデミー
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周期性を示す相互接続された格子の物質とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-029412
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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Cited by examiner (5)
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微粒子構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-026771
Applicant:株式会社リコー
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周期性を示す相互接続された格子の物質とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-029412
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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スルフィド基を有する化合物を用いたフォトニック結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-332539
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
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コロイド結晶体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-268141
Applicant:財団法人川村理化学研究所
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逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-180892
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー, 科学技術振興事業団
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