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J-GLOBAL ID：200903096424887881

真空チャック

Inventor：
吉富 靖樹

About 吉富 靖樹

, 
荒堀 忠久

About 荒堀 忠久


Applicant, Patent owner：
住友金属工業株式会社

About 住友金属工業株式会社


Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001397650
Publication number (International publication number)：2003197725
Application date： Dec. 27, 2001
Publication date： Jul. 11, 2003
Summary：
【要約】【課題】 処理時の温度上昇に対してもチャックの熱膨張を抑え、チャック上のウェハの温度を一定に保つことが可能なウェハ保持用真空チャックを提供する。また、チャックの重量増加を抑えつつ剛性を高めることによりウェハ上に高精度の加工を可能とし、回路の微細化にも十分に対応できる真空チャックを提供する。【解決手段】 本発明の真空チャックは、半導体製造装置を構成するウェハ保持用真空チャックであって、10°C〜40°Cの温度における熱膨張係数が1.5×10-6/°C以下であり、気孔率が0.5%以下である低熱膨張セラミックスからなり、内部に真空吸引経路および空洞が配設されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
半導体製造装置を構成するウェハ保持用真空チャックであって、10°C〜40°Cの温度における熱膨張係数が1.5×10-6/°C以下であり、気孔率が0.5%以下である低熱膨張セラミックスからなり、内部に真空吸引経路および空洞が配設されている真空チャック。
IPC (5)：
H01L 21/68 ,  C04B 35/19 ,  C04B 35/195 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 622
FI (5)：
H01L 21/68 P ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/30 503 C ,  C04B 35/16 A ,  C04B 35/18 A
F-Term (29)：
4G030AA02 ,  4G030AA07 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA45 ,  4G030AA46 ,  4G030AA47 ,  4G030AA49 ,  4G030AA51 ,  4G030AA52 ,  4G030AA53 ,  4G030AA60 ,  4G030BA01 ,  4G030BA24 ,  4G030CA03 ,  4G030CA07 ,  4G030CA08 ,  4G030HA18 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA14 ,  5F031HA38 ,  5F031MA27 ,  5F031PA11 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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