Pat
J-GLOBAL ID:200903096575160746
誘電体窓を用いたマイクロ波プラズマ処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999096628
Publication number (International publication number):2000294548
Application date: Apr. 02, 1999
Publication date: Oct. 20, 2000
Summary:
【要約】【課題】 1Torr程度の高圧領域で処理を行う場合でも、大口径を均一に高速高品質処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 マイクロ波が透過可能な誘電体窓107を有するプラズマ処理室101と、被処理基体102支持手段と、該プラズマ処理室101内への処理用ガス導入手段105と、該プラズマ処理室101内を排気する排気106手段と、複数のスロットを有するマイクロ波導入手段とで構成されるプラズマ処理装置であって、該誘電体窓の該プラズマ処理室側の面は錐状であることを特徴とする。
Claim (excerpt):
マイクロ波が透過可能な誘電体窓を有するプラズマ処理室と被処理基体支持手段と、該プラズマ処理室内への処理用ガス導入手段と、該プラズマ処理室内を排気する排気手段と、複数のスロットを有するマイクロ波導入手段とで構成されるプラズマ処理装置であって、該誘電体窓の該プラズマ処理室側の面は錐状であることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (7):
H01L 21/31
, C23C 16/44
, C23C 16/511
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
FI (8):
H01L 21/31 C
, C23C 16/44 J
, C23C 16/511
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
, H05H 1/46 C
, H01L 21/302 B
F-Term (67):
4K030AA06
, 4K030AA18
, 4K030BA40
, 4K030BA44
, 4K030CA04
, 4K030CA07
, 4K030DA08
, 4K030FA01
, 4K030KA46
, 4K030LA00
, 4K030LA02
, 4K030LA15
, 4K030LA24
, 4K057DA16
, 4K057DB01
, 4K057DB02
, 4K057DB03
, 4K057DB04
, 4K057DB05
, 4K057DB06
, 4K057DB08
, 4K057DC10
, 4K057DD01
, 4K057DE06
, 4K057DE07
, 4K057DE08
, 4K057DE09
, 4K057DE15
, 4K057DE20
, 4K057DG06
, 4K057DK03
, 4K057DM29
, 4K057DN01
, 5F004AA01
, 5F004AA15
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB28
, 5F004BC03
, 5F004BD01
, 5F004DA26
, 5F004DB26
, 5F045AA09
, 5F045AB03
, 5F045AB04
, 5F045AB06
, 5F045AB10
, 5F045AB31
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AB34
, 5F045AE13
, 5F045AE15
, 5F045AE17
, 5F045AE19
, 5F045AE21
, 5F045BB01
, 5F045EB02
, 5F045EC05
, 5F045EE20
, 5F045EF03
, 5F045EH02
, 5F045EH03
, 5F045EH16
, 5F045EH19
, 5F045EK12
, 5F045EK17
Patent cited by the Patent:
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