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J-GLOBAL ID：200903096892265979

気体中の異種物質の除去装置

Inventor：
小嶋 久夫

About 小嶋 久夫


Applicant, Patent owner：
株式会社アネモス

About 株式会社アネモス


Agent (2)： 角田 芳末 ,  伊藤 仁恭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008121451
Publication number (International publication number)：2008183563
Application date： May. 07, 2008
Publication date： Aug. 14, 2008
Summary：
【課題】除去効率と化学反応の向上による高性能化、省エネルギー化、省スペース化、及び固形物の付着成長の防止によるメンテナンスフリー、低圧力損失化及び運転管理の容易化を図ることができる気体中の異種物質の除去装置を提供する。【解決手段】静止型混合器1を内設した洗浄塔23と、静止型混合器1の上部から、異種物質を含有する第1の気体を供給する第1の供給手段と、第1の供給手段の外周に配置された第2の気体を供給する第2の供給手段と、下向きに液体を供給する第3の供給手段29と、洗浄塔の下方に配設されたタンク26と、洗浄塔の下部から第3の供給手段29に液体を供給する洗浄液循環供給ライン41とを有し、洗浄塔の下部から排出された液体と気体とがタンク26内の液体中に導入されて分離され、分離された液体が洗浄液供給ライン41を通じて第3の供給手段29に供給される除去装置を構成する。【選択図】図8
Claim (excerpt)：
長手方向を実質的に垂直にして配置された液体と気体とを混合して気体中の異種物質を液体中に移動させる静止型混合器を内設した洗浄塔と、 前記静止型混合器の上部から、異種物質を含有する第1の気体を供給する第1の供給手段と、 前記第1の供給手段の外周に配置された、第2の気体を供給する第2の供給手段と、 前記第1の供給手段及び前記第2の供給手段の下方に配設された、下向きに液体を供給する第3の供給手段と、 前記洗浄塔の下方に配設されたタンクと、 前記洗浄塔の下部から、前記タンクを介して、前記第3の供給手段に液体を供給する、洗浄液循環供給ラインとを有し、 前記洗浄塔の下部から排出された液体と気体とが、前記洗浄液循環供給ラインを通じて前記タンク内の液体中に導入され、 前記タンク内の液体中で前記排出された気体と前記排出された液体とが分離され、 前記タンク内で分離された液体が、前記洗浄液供給ラインを通じて第3の供給手段に供給される ことを特徴とする気体中の異種物質の除去装置。
IPC (5)：
B01D 47/06 ,  B01D 47/14 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/20 ,  B01D 53/18
FI (5)：
B01D47/06 A ,  B01D47/14 ,  B01F5/00 F ,  B01F5/20 ,  B01D53/18 C
F-Term (17)：
4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB10 ,  4D020CB17 ,  4D020CB25 ,  4D020CC01 ,  4D020CC03 ,  4D020CD02 ,  4D032AC07 ,  4D032AC08 ,  4D032BB05 ,  4D032BB20 ,  4G035AB27 ,  4G035AC08 ,  4G035AC09 ,  4G035AC37
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (9)
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