化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001053967
Publication number (International publication number)：2001343750
Application date： Feb. 28, 2001
Publication date： Dec. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】樹脂と酸発生剤を含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与えるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、酸発生剤、及びシクロヘキサノール類を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、酸発生剤、及びシクロヘキサノール類を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (12)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-028623 Applicant：三菱化学株式会社
感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-245744 Applicant：三菱化学株式会社
感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-023935 Applicant：株式会社東芝

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