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J-GLOBAL ID：200903080692180193

ポジ型感放射線性樹脂組成物

Inventor：
田中 由紀

About 田中 由紀

, 
亀山 泰弘

About 亀山 泰弘


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000028623
Publication number (International publication number)：2000298349
Application date： Feb. 07, 2000
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 マスク寸法より細いレジストパターンを高感度で形成することができ、焦点深度が大きく、側壁あれがなく形状の良好なレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の該水酸基の少なくとも一部が酸分解性保護基で保護された樹脂及び(B)活性光線または放射線により分解して酸を発生する化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物において、樹脂(A)が酸分解性保護基として下記一般式(I)で表される基を必須成分として含み、【化1】(ただし、R1 及びR2 は独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアルコキシ基を表し、R3 は置換されていても良いアルキル基を表す。)かつ、該樹脂組成物が(C)脂肪族多価アルコール類を該樹脂組成物の固形分に対して0.5〜20重量%含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
(A)フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の該水酸基の少なくとも一部が酸分解性保護基で保護された樹脂及び(B)活性光線または放射線により分解して酸を発生する化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物において、樹脂(A)が酸分解性保護基として下記一般式(I)で表される基を必須成分として含み、【化1】(ただし、R1 及びR2 は独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアルコキシ基を表し、R3 は置換されていても良いアルキル基を表す。)かつ、該樹脂組成物が(C)脂肪族多価アルコール類を該樹脂組成物の固形分に対して0.5〜20重量%含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-052637   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • 化学増幅ポジ型レジスト材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-185812   Applicant：信越化学工業株式会社
  • 感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-023935   Applicant：株式会社東芝
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