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J-GLOBAL ID：200903097162185003

マイクロ波供給システム

Inventor： 倉島 秀夫 ,  小林 亮 ,  小野澤 康哲
Applicant, Patent owner： 東洋製罐株式会社
Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004153798
Publication number (International publication number)：2005340964
Application date： May. 24, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】 伝送特性が良くかつ劣化等のほとんどない伝達手段により、安定したマイクロ波を供給し、移動可能なマイクロ波処理部内で効率よくプラズマを発生させる。【解決手段】 マイクロ波発生装置20からマイクロ波処理部10へマイクロ波を送るマイクロ波伝達部Aに、バットフランジ30とチョークフランジ40とを設ける。これらチョークフランジ40等の半径は、(フランジ半径[mm])≧{(矩形導波路短辺の長さ[mm])/2}+{(管内波長[mm])/4}+12[mm]との式で定義され、チョークフランジ40のマイクロ波封止面(外側対向面47)の幅を12[mm]以上とする。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

マイクロ波処理部に接続されたフランジと、 マイクロ波発生装置に接続されたチョークフランジとを備え、 前記チョークフランジは、前記フランジと接触して、又は、前記フランジとは所定距離離隔した位置に配置された ことを特徴とするマイクロ波供給システム。

IPC (6)：

H01P1/04 ,  C23C16/511 ,  H01P1/209 ,  H01P3/12 ,  H01P5/02 ,  H05H1/46

FI (6)：

H01P1/04 ,  C23C16/511 ,  H01P1/209 ,  H01P3/12 ,  H01P5/02 Z ,  H05H1/46 B

F-Term (11)：

4K030FA01 ,  4K030JA03 ,  4K030KA30 ,  5J006JA34 ,  5J006LA02 ,  5J006NA09 ,  5J006ND04 ,  5J011DA01 ,  5J011DA02 ,  5J011DA05 ,  5J014DA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• プラズマ強化処理におけるプラスチック製ボトルの内面処理方法および装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-514303   Applicant：テトララヴァルホールディングズアンドファイナンスエス.アー.
• マイクロ波プラズマ処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-116301   Applicant：東洋製罐株式会社
• コイル内蔵型整合器およびプラズマCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-110794   Applicant：国際電気株式会社
• プラズマCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-094598   Applicant：三菱重工業株式会社

Cited by examiner (4)

• チョークフランジ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-177939   Applicant：新日本無線株式会社
• マイクロ波プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-132666   Applicant：住友金属工業株式会社, ラムリサーチコーポレーション
• 導波管接続方法および接続構造
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-337758   Applicant：日本電気株式会社
• 特開昭57-046501