Pat
J-GLOBAL ID：200903097228718822

ディスク被覆システム

Inventor：
フェアベアーン、ケビン、ピー

About フェアベアーン、ケビン、ピー

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ブルック、テリー

About ブルック、テリー

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マリオン、クレイグ

About マリオン、クレイグ


Applicant, Patent owner：
インテバック・インコーポレイテッド

About インテバック・インコーポレイテッド


Agent (2)： 竹内 澄夫 ,  堀 明▲ひこ▼
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006500986
Publication number (International publication number)：2006517324
Application date： Jan. 20, 2004
Publication date： Jul. 20, 2006
Summary：
【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。
Claim (excerpt)：
基板を磁気ディスクに処理するための基板処理システムであって、 カセット内の基板を処理システム及び真空環境内に送り込むための入口と、 前記カセットから1枚ずつ基板を持上げるためのリフタと、 基板が垂直方向に維持された状態で、個々に基板を処理するよう互いに隣接配置された処理ステーションと、 個々の基板が処理されてステーションからステーションへ前記処理ステーションを通じて移動する際に、処理ステーション内に基板を運びかつ垂直位置に基板を保持するためのディスクキャリアと、 前記リフタ上の基板をディスクキャリアへ移送するための移送装置と、 処理ステーションから処理ステーション及びアンロードゾーンへディスクキャリアを移動するための移送パス及びドライブであって、前記アンロードゾーンはディスクの処理後にディスクキャリアから処理済ディスクを除去するための及び前記システムの外へ移動されるよう処理済みディスクをカセットに戻すためのリフタを有する、ところの移送パス及びドライブと、 から成り、 前記処理ステーションは処理ステーションの第1層上に配置された処理ステーションの少なくとも第2層と積層されて配置され、その結果、2つの処理ステーションに対するフットプリントはひとつの処理ステーションに対するフットプリントより実質的に大きくはなく、縦方向に配置された2つの処理ステーションのフットプリントより小さい、ところのシステム。
IPC (4)：
G11B 5/84 ,  G11B 5/851 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/677
FI (4)：
G11B5/84 Z ,  G11B5/851 ,  C23C14/56 G ,  H01L21/68 A
F-Term (27)：
4K029BB04 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112FA04 ,  5D112FB21 ,  5D112FB22 ,  5D112FB25 ,  5F031CA01 ,  5F031DA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F031PA16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 米国特許第5,215,420号
Cited by examiner (20)
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