露光装置および露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深見久郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998215811
Publication number (International publication number)：1999237744
Application date： Jul. 30, 1998
Publication date： Aug. 31, 1999
Summary：

【要約】【課題】小型のフォトマスクを用いて、露光により基板に直線状パターンを効率よく転写することのできる露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】フォトマスク10Aは、基板1Aに露光されるパターンの直線状部に対応する部分の長さが短縮されたパターンを有し、フォトマスク10Aを基板1Aの一方向に沿って停止および移動させるとともに、フォトマスク10Aに光20を照射することによって、基板1Aに直線状に延びるパターンを転写する。

Claim (excerpt)：

複数の並行した直線状のパターン、または、それぞれの直線状のパターンの少なくとも一方の片端に任意の形状のパターンが描かれたフォトマスクを、感光材の層を表面に備えた基板に近接して配置し、前記フォトマスクを通して前記基板に光を照射することによって前記基板にパターンを転写するための露光装置であって、前記フォトマスクの直線状のパターンは、前記基板に転写されるべきパターンの直線部を短くして描かれており、前記フォトマスクと、前記フォトマスクを通して前記基板に光を照射するための光照射装置とが、前記基板を含む所定エリア内で相対的にX-Y方向に移動または停止する機能を有し、前記フォトマスクの前記基板に対する相対的移動中または停止時に、露光によって前記パターンを基板に順次転写する、露光装置。

IPC (2)：

G03F 7/22 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/22 Z , H01L 21/30 509

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

露光装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-182305 Applicant：ソニー株式会社
半導体装置の製造方法及び露光マスク及び半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-105584 Applicant：東芝マイクロエレクトロニクス株式会社, 株式会社東芝
特開昭53-066173

Show all

Return to Previous Page