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J-GLOBAL ID：200903097795653065

化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： 畠山 潤 ,  名倉 茂広 ,  本海 清 ,  永田 岳志 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996195616
Publication number (International publication number)：1997160247
Application date： Jul. 05, 1996
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線等の高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザーに感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性に優れた微細加工技術に適した高解像性を有し、実用性の高い化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 重量平均分子量が100〜1,000で、かつ分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物の該フェノール性水酸基の水素原子を酸不安定基により全体として平均10〜80%の割合で部分置換した化合物を溶解制御剤として含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

Claim (excerpt)：

重量平均分子量が100〜1,000で、かつ分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物の該フェノール性水酸基の水素原子を酸不安定基により全体として平均10〜80%の割合で部分置換した化合物を溶解制御剤として含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-068630   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-111129   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-051222   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-082417   Applicant：富士写真フイルム株式会社