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J-GLOBAL ID:200903097829637072
改質シリカ系ゾルおよびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 政久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007119026
Publication number (International publication number):2008273780
Application date: Apr. 27, 2007
Publication date: Nov. 13, 2008
Summary:
【課題】 硬化性の組成物、被膜形成用組成物またはセラミクス形成用前駆体組成物に高密充填可能であり、充填材としての強度または固有の特性を示す改質シリカ系微粒子である。【解決手段】 (a)真球度が0.80〜1.00の範囲にあり、(b)ナトリウム滴定法により測定される比表面積を(SA1)とし、画像解析法により測定された平均粒子径(D2)から換算した比表面積を(SA2)としたときの表面粗度(SA1)/(SA2)の値が、1.00以上、1.20未満の範囲にあり、(c)画像解析法により測定された平均粒子径(D2)が10〜300nmの範囲にあり、(d)粒子径が800nm以上の粗大粒子の個数が、1000個/mL(固形分濃度1質量%換算)以下であり、(e)粒子変動係数(CV値)が5%以下である、シリカ系微粒子が溶媒に分散してなる改質シリカ系ゾル。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記条件(a)〜(e)を満たす改質シリカ系微粒子が溶媒に分散してなる改質シリカ系ゾル。
(a)真球度が0.80〜1.00の範囲にあること
(b)ナトリウム滴定法により測定される比表面積を(SA1)とし、画像解析法により測定された平均粒子径(D2)から換算した比表面積を(SA2)としたときの表面粗度(SA1)/(SA2)の値が、1.00以上、1.20未満の範囲にあること
(c)画像解析法により測定された平均粒子径(D2)が10〜300nmの範囲にあること
(d)粒子径が800nm以上の粗大粒子の個数が、1000個/mL(固形分濃度1質量%換算)以下であること
(e)粒子変動係数(CV値)が5%以下であること
IPC (4):
C01B 33/14
, C09K 3/14
, C08L 101/00
, C08K 3/36
FI (4):
C01B33/14
, C09K3/14 550D
, C08L101/00
, C08K3/36
F-Term (23):
4G072AA28
, 4G072AA38
, 4G072CC01
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072EE01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072MM06
, 4G072RR12
, 4G072RR19
, 4G072TT01
, 4G072TT05
, 4G072TT30
, 4G072UU07
, 4G072UU30
, 4J002AA001
, 4J002BB111
, 4J002DJ016
, 4J002FB086
, 4J002FB096
, 4J002FD206
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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被覆用樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-103942
Applicant:三井石油化学工業株式会社, ケミテック株式会社
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樹脂組成物および多層配線形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-055904
Applicant:富士通株式会社
-
シリカ微粒子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-428824
Applicant:株式会社トクヤマ
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研磨剤用水熱処理コロイダルシリカ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-148975
Applicant:日本化学工業株式会社
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研磨用シリカ粒子分散液、その製造方法および研磨材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-304958
Applicant:触媒化成工業株式会社
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