Pat

J-GLOBAL ID：200903098039450408

パターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置

Inventor： 吉井 実 ,  竹内 誠二 ,  長谷川 雅宣 ,  宮崎 恭一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996139610
Publication number (International publication number)：1997036037
Application date： May. 09, 1996
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】 露光量とフォーカス位置を適切に設定し、高集積度のデバイスが得られるパターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 露光光で照明した第1物体面上の周期的なパターンを投影光学系により感光体を塗布した第2物体面上に投影露光する投影露光装置において、該感光体に形成される感光パターンの形成状態を入射光束の変化を利用して求め、これより該第2物体の露光条件を制御していること。

Claim (excerpt)：

周期的パターンから露光光で感光体を塗布した物体上に形成した感光パターン、該感光パターンに入射光束を照射する光束入射手段、該感光パターンからの信号光束を受光する受光手段、該受光手段からの信号を用いて該入射光束の変化を検出し、該感光パターンの形成状態を求める処理手段とを有していることを特徴とするパターン形成状態検出装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/66

FI (7)：

H01L 21/30 526 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Y ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 516 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平4-312947
  
• 特開平2-030112
  
• 露光方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-178046   Applicant：松下電子工業株式会社
• 特開昭59-168636
  
• 特性値測定方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-200719   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭64-032623
  
• 潜像測定を用いたフォトリソグラフィ制御方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-043742   Applicant：ナショナルセミコンダクタコーポレイション
• 重ね合わせ精度の測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-134586   Applicant：日本電気株式会社