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J-GLOBAL ID：200903098051122068

光導波路の製造方法

Inventor：
西本 裕

About 西本 裕


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 尾身 祐助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995314935
Publication number (International publication number)：1997133827
Application date： Nov. 09, 1995
Publication date： May. 20, 1997
Summary：
【要約】【目的】 複数のコアが狭い間隙をおいて形成されている場合にも、上層クラッドの成膜時にコア間にボイドが発生することがないようにして、高温のリフロー処理の必要をなくし熱処理による応力の発生を回避する。【構成】 ?@基板1上にCVD法により石英系材料からなる下層クラッド2を形成する工程、?A下層クラッド上にCVD法により石英系材料からなるコア形成材料層を形成する工程、?Bコア形成材料層をパターニングして少なくとも2本のチャンネル化されたコア3を形成する工程、?Cリン、ボロンおよびGeの1種または複数種をドーパントとして含む石英系材料からなり、前記コアを被覆する上層クラッド4を有機系材料をソースとして用いるCVD法により形成する工程、を有するものであって、上記?Cの工程においては、ソースとなる各材料が同一のアルコキシル基を有していることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
(1)基板上にCVD(Chemical Vapor Deposition )法により石英系材料からなる下層クラッドを形成する工程と、(2)前記下層クラッド上にCVD法により石英系材料からなるコア形成材料層を形成する工程と、(3)前記コア形成材料層をパターニングして少なくとも2本のチャンネル化されたコアを形成する工程と、(4)リン(P)、ボロン(B)およびゲルマニウム(Ge)の中の1種または複数種をドーパントとして含む石英系材料からなり、前記コアを被覆する上層クラッドを有機系材料をソースとして用いるCVD法により形成する工程と、を有する光導波路の製造方法において、前記第(4)の工程においては、ソースとなる各材料が同一のアルコキシル基を有していることを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2)：
G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (2)：
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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