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J-GLOBAL ID：200903098084808747

位相差および光軸方位の測定装置

Inventor：
川上 彰二郎

About 川上 彰二郎

, 
佐藤 尚

About 佐藤 尚


Applicant, Patent owner：
株式会社フォトニックラティス

About 株式会社フォトニックラティス


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006085607
Publication number (International publication number)：2007263593
Application date： Mar. 27, 2006
Publication date： Oct. 11, 2007
Summary：
【課題】複屈折を有するフィルムや基板の位相差および主軸方位角を並列処理で大面積を高効率で測定するための装置および方法を提供する。【解決手段】偏光が円偏波もしくは楕円偏波の既知の偏光状態をもつ光を被測定フィルムに入射し、フィルムを透過することによる偏光状態の変化を、透過偏光の方向が異なるようにパタン化された偏光子とエリアセンサなどの受光素子アレイとを組み合わせた偏光計測装置により測定する。これによりフィルム上の多点位相差や主軸方位を一括して計測する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
任意の主軸方位および位相差を有する透明基板あるいは透明フィルムに対して既知の楕円偏光もしくは円偏光を入射し、 前記透明基板あるいは透明フィルムを透過した光の偏光状態を測定する手段として、 透過偏光の方向が領域ごとに異なるようにパタン化された偏光子と、その各領域を通過した光の強度を独立に受光することのできる受光素子とを具備しており、かつ複数の測定点を同時に測定することを特徴とする、 位相差および主軸方位の測定装置
IPC (1)：
G01N 21/21
FI (1)：
G01N21/21 Z
F-Term (15)：
2G059AA02 ,  2G059BB10 ,  2G059BB15 ,  2G059EE05 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK03 ,  2G059KK04 ,  2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
  • 偏光解析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-013863   Applicant：大塚電子株式会社
  • 複屈折測定装置及び複屈折測定方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-389419   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開平4-329339
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