Pat
J-GLOBAL ID:200903094409486371

複屈折測定装置及び複屈折測定方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003389419
Publication number (International publication number):2004205500
Application date: Nov. 19, 2003
Publication date: Jul. 22, 2004
Summary:
【課題】 簡易な構成で短時間で複屈折を測定すること。【解決手段】 複屈折測定装置において、試料に略円偏光の光を入射させる入射ユニットと、試料からの光の偏光状態を検出するストークスメーターと、前記ストークスメーターから出力されたストークスパラメターに基づいて前記試料の複屈折を演算する演算部と、を有することを特徴とする構成とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
試料に略円偏光の光を入射させる入射手段と、 前記試料からの光の偏光状態を検出するストークスメーターと、 前記ストークスメーターからのストークスパラメターに基づいて前記試料の複屈折を演算する演算部と、を有することを特徴とする複屈折測定装置。
IPC (1):
G01N21/23
FI (1):
G01N21/23
F-Term (17):
2G059AA02 ,  2G059BB20 ,  2G059DD11 ,  2G059EE04 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059GG08 ,  2G059HH03 ,  2G059HH04 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page