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J-GLOBAL ID：200903098099234003

光導波路基板

Inventor：
金子 勝弘

About 金子 勝弘


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001151647
Publication number (International publication number)：2002341162
Application date： May. 21, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 基板上に十分な密着強度でシロキサンポリマから成る光導波路を形成した光導波路基板を提供する。【解決手段】 基板1上に第1のシロキサンポリマから成るバッファ層2を介して第2のシロキサンポリマから成る下部クラッド層3とコア部4とを具備する光導波路が形成されて成り、第1のシロキサンポリマの有機成分含有量が第2のシロキサンポリマよりも多い光導波路基板である。膜応力が小さく、膜強度が高く、基板1との密着性に優れたバッファ層2上に下部クラッド層3を形成することにより、バッファ層2と下部クラッド層3とはシロキサン結合や水素結合等によって良好に密着し、またバッファ層2によってその上に形成した光導波路による応力を緩和することができるので、基板1上に十分な密着強度でシロキサンポリマから成る光導波路を形成した光導波路基板を得ることができる。
Claim (excerpt)：
基板上に第1のシロキサンポリマから成るバッファ層を介して第2のシロキサンポリマから成る下部クラッド層とコア部とを具備する光導波路が形成されて成り、前記第1のシロキサンポリマの有機成分含有量が前記第2のシロキサンポリマよりも多いことを特徴とする光導波路基板。
IPC (2)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/122
FI (2)：
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 A
F-Term (3)：
2H047KA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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