Pat
J-GLOBAL ID:200903098146613263
放電装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000074195
Publication number (International publication number):2001259409
Application date: Mar. 16, 2000
Publication date: Sep. 25, 2001
Summary:
【要約】【課題】 材料を放電部に確実に供給することができ、材料の混合比を任意に設定できる放電装置を提供すること。【解決手段】 この放電装置1は、放電手段2と、材料供給手段3とを主な構成要素とする。放電手段2は、第1の材料である放電ガスを放電させてプラズマを発生させる。材料供給手段3は、プラズマ領域内に第2の材料である液体を直接供給する。この材料供給手段3は、プラズマ領域側に多孔質体31を配置した材料収納部32を設け、この材料収納部32に外部の第2の材料供給源6から配管7を介して第2の材料を供給し、電極21,22の間で放電ガスを放電させて得られるプラズマ領域中に多孔質体31の表面から第2の材料を蒸発させることにより供給している。
Claim (excerpt):
気体材料と液体材料とを放電させることにより反応させる放電装置において、気体からなる第1の材料を放電させてプラズマを発生させる放電手段と、前記プラズマ領域内に液体からなる第2の材料を直接供給する材料供給手段と、を備えたことを特徴とする放電装置。
IPC (6):
B01J 19/08
, B01J 10/00
, C01B 7/19
, C01B 13/28
, H05H 1/24
, C07B 37/06
FI (6):
B01J 19/08 E
, B01J 10/00 Z
, C01B 7/19
, C01B 13/28
, H05H 1/24
, C07B 37/06
F-Term (26):
4G042DB16
, 4G042DB17
, 4G042DB35
, 4G075AA03
, 4G075AA37
, 4G075AA62
, 4G075BA05
, 4G075BC06
, 4G075BD05
, 4G075BD13
, 4G075CA15
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EA06
, 4G075EB42
, 4G075EC21
, 4G075FA05
, 4G075FA14
, 4G075FB01
, 4G075FC15
, 4H006AA04
, 4H006AA05
, 4H006AC13
, 4H006AC26
, 4H006BA95
, 4H006BE60
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
ハロゲン系ガスの処理方法、処理装置および反応処理装置並びに半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-326511
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
特開平1-131805
-
特開平4-293235
-
特開平1-114031
-
特開昭48-099060
-
放電プラズマを用いたフロン分解処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-204175
Applicant:ナイルス部品株式会社
-
金属のプラズマ-アーク溶接方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-505895
Applicant:アレクサンドル・イワノヴィチ・アプネヴィチ, エフゲニー・イワノヴィチ・ティタレンコ
Show all
Return to Previous Page