Pat
J-GLOBAL ID:200903098223176505
欠陥検査レビュー方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001292790
Publication number (International publication number):2003098114
Application date: Sep. 26, 2001
Publication date: Apr. 03, 2003
Summary:
【要約】【課題】半導体の欠陥を検出するにはパターンマッチングをもとに差画像を算出する手法が一般に用いられるが、半導体のパターンが周期性を持っていない領域においては検査位置の撮像画像を比較画像を撮像しなければならなかったためにスループットが低いという問題があった。【解決手段】検査位置の画像を局所領域ごとに分割し、領域ごとに既に記憶してある画像の局所領域とマッチングを行い、マッチングがあった局所領域間の差分を求めて欠陥領域を抽出する。
Claim (excerpt):
検査試料の検査位置に顕微鏡視野を移動させ前記検査位置の外観画像を撮像する欠陥撮像ステップと前記検査位置と同一の外観を持つよう設計された比較位置の外観画像を撮像するか判定する比較画像撮像判定ステップと前記比較画像撮像判定ステップの判定結果に応じて前記比較位置が前記顕微鏡視野を移動させ前記比較位置の外観画像を撮像する比較画像撮像ステップと前記比較画像撮像判定ステップの判定結果に応じて前記検査位置の外観画像のみかまたは前記検査位置の外観画像と前記比較位置の外観画像より前記検査位置の欠陥領域を抽出する欠陥領域抽出ステップと前記欠陥領域抽出結果をもとに処理を行う欠陥領域抽出後ステップにより構成されることを特徴とする欠陥検査レビュー方法において前記比較画像撮像判定ステップは前記比較位置の外観画像を撮像するかの仮判定を前記欠陥撮像ステップ前に判定する撮像開始前比較画像撮像判定ステップと前記比較位置の外観画像を撮像するかの最終判定を前記欠陥撮像ステップ後に判定する撮像開始後比較画像撮像判定ステップのいずれか1つかあるいはその両方より構成されることと前記撮像開始後比較画像撮像判定ステップを実行中に前記撮像開始後比較画像撮像判定ステップにおいて判定している検査位置とは異なる検査位置に対して欠陥撮像ステップかまたは比較画像撮像ステップを並列して実行することを特徴とする欠陥検査レビュー方法。
IPC (4):
G01N 21/956
, G01B 11/30
, G06T 1/00 305
, H01L 21/66
FI (4):
G01N 21/956 A
, G01B 11/30 A
, G06T 1/00 305 A
, H01L 21/66 J
F-Term (53):
2F065AA49
, 2F065AA61
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065FF04
, 2F065PP24
, 2F065RR06
, 2F065RR08
, 2F065SS13
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051DA05
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051ED04
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB05
, 4M106DB21
, 4M106DJ04
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
, 4M106DJ39
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA19
, 5B057BA26
, 5B057CA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB02
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC03
, 5B057CD09
, 5B057CE09
, 5B057CH02
, 5B057DA03
, 5B057DA07
, 5B057DB02
, 5B057DB05
, 5B057DB09
, 5B057DC33
, 5B057DC38
, 5B057DC39
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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自動欠陥情報収集制御方法及び自動欠陥情報収集制御プログラムを記録した記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-239819
Applicant:株式会社日立製作所
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欠陥検出用顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-258558
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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走査形顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-145447
Applicant:株式会社日立製作所
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画像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-075852
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立マイコンシステム
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