親媒性加工を用いるバイオアッセイ用基板の製造方法及びバイオアッセイ用基板

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡邊薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003346925
Publication number (International publication number)：2005114468
Application date： Oct. 06, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】試料のロスが少なく、ハイブリダイゼーション等の相互作用を効率的に行うことができるバイオアッセイ用基板を製造する方法を提供すること。ハイブリダイゼーション等の相互作用を効率的に起こし、相互作用の検出精度を高めたバイオアッセイ用基板を提供すること。【解決手段】物質間の相互作用の場を提供できる反応領域が形成された基板に、次の(1)から(3)の工程を組み合わせて加工することによって、相互作用を検出するバイオアッセイ用基板を製造する方法及び該製造方法により製造されたバイオアッセイ用基板を提供する。(1)基板表面を疎水性物質で処理して疎水面を形成する疎水化工程。(2)疎水面の一部を親水面に変換する親水化工程。(3)前記親水面又は前記疎水面に検出用物質を固定化して、前記反応領域中に検出用表面を形成する検出用表面形成工程。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

物質間の相互作用の場を提供できる反応領域が形成された基板に、次の(1)から(3)の工程を組み合わせて加工することによって、前記相互作用を検出するバイオアッセイ用基板を製造する方法。 (1)基板表面を疎水性物質で処理して疎水面を形成する疎水化工程。 (2)疎水面の一部を親水面に変換する親水化工程。 (3)前記親水面又は前記疎水面に検出用物質を固定化して、前記反応領域中に検出用表面を形成する検出用表面形成工程。

IPC (4)：

G01N33/566 , C12N15/09 , C12Q1/68 , G01N33/53

FI (4)：

G01N33/566 , C12Q1/68 A , G01N33/53 M , C12N15/00 F

F-Term (15)：

4B024AA11 , 4B024CA01 , 4B024CA11 , 4B024HA12 , 4B024HA19 , 4B063QA13 , 4B063QQ42 , 4B063QQ52 , 4B063QR32 , 4B063QR35 , 4B063QR84 , 4B063QS02 , 4B063QS15 , 4B063QS34 , 4B063QS39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特表平4-505763号報
生体試料から成るミクロ配列を作成するための方法および装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-502498 Applicant：ザボードオブトランティーズオブザレランドスタンフォードジュニアユニバーシティー

Cited by examiner (7)

キャリアーに複数の分析部位を備えた化学的または生物学的分析のための装置およびその製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-570568 Applicant：コミツサリアタレネルジーアトミーク
多重アレイの多重特異的な電気化学発光試験
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-527737 Applicant：メソスケールテクノロジーズ,エルエルシー
ポリヌクレオチドプローブチップ及びポリヌクレオチド検出法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-241330 Applicant：株式会社日立製作所

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