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J-GLOBAL ID:200903099250158159
感光性組成物及び平版印刷版
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996324025
Publication number (International publication number):1998090881
Application date: Dec. 04, 1996
Publication date: Apr. 10, 1998
Summary:
【要約】【課題】 近赤外半導体レーザーによる直接製版に適した、高感度でかつインキ着肉性に優れ、保存性が改善された平版印刷版を提供するものである。【解決手段】 支持体上に、(a)ノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂から選ばれた樹脂、(b)該樹脂化合物を架橋し得るアミノ化合物誘導体、(c)近赤外波長域に吸収を有する特定のシアニン系化合物及び/又はポリメチン系化合物、および(d)光酸発生剤を含有してなる感光性組成物、及び支持体上に該感光性組成物を塗設して成る平版印刷版。
Claim (excerpt):
(a)ノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂から選ばれた樹脂、(b)該樹脂を架橋し得るアミノ化合物誘導体、(c)近赤外波長域に吸収を有する化合物として、下記一般式(I)で表されるシアニン系化合物及び/又は下記一般式(II)で表されるポリメチン系化合物から選ばれる少なくとも1種、【化1】(一般式(I)中、R1 〜R8 は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基を示すか又は隣接する基が連結して縮合ベンゼン環を形成していてもよく、R9 及びR10は各々独立して置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いフェニル基、置換基を有していても良いアルケニル基、又は置換基を有していてもよいアルキニル基を示し、Y1 及びY2 は各々独立して硫黄原子又はジアルキルメチレン基を示し、L1 は置換基を有していても良いペンタ又はヘプタメチン基を示し、該ペンタ又はヘプタメチン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成していてもよく、X- は対アニオンを示す。)【化2】(一般式(II)中、R11〜R14は各々独立してアルキル基を示し、R15及びR16は各々独立して置換基を有していても良いアリール基を示し、L2 は置換基を有していても良いモノ、トリ、又はペンタメチン基を示し、X- は対アニオンを示す。)及び(d)光酸発生剤を含有してなる感光性組成物。
IPC (6):
G03F 7/004 503
, B41C 1/055 501
, B41N 1/14
, G03F 7/00 503
, G03F 7/038 505
, C08L 61/04 LNF
FI (6):
G03F 7/004 503
, B41C 1/055 501
, B41N 1/14
, G03F 7/00 503
, G03F 7/038 505
, C08L 61/04 LNF
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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ネガ型画像記録材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-171307
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開昭58-181690
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放射線感受性組成物およびそれを含む平板印刷版
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-054630
Applicant:イーストマンコダックカンパニー
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平板印刷版
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-102377
Applicant:イーストマンコダックカンパニー
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特開昭60-078787
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特開昭59-084356
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感光性着色樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-168652
Applicant:ナガセ電子化学株式会社
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ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物及びマイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-021226
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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ネガ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-110285
Applicant:ヘキストジャパン株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-121845
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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