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J-GLOBAL ID：200903099489573344

走査プローブ顕微鏡およびこれを用いた試料観察方法

Inventor：
渡辺 正浩

About 渡辺 正浩

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中田 俊彦

About 中田 俊彦

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馬塲 修一

About 馬塲 修一

, 
新井 武

About 新井 武


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002288203
Publication number (International publication number)：2004125540
Application date： Oct. 01, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：
【課題】高スループットで試料にダメージを与えずに、試料の正確な立体形状情報を計測できる走査プローブ顕微鏡を提供することである。【解決手段】探針を測定点のみで接触させて次の測定点に向かうときには探針をいったん引き上げて退避させてから次の測定点に移動してから、探針を接近させることによって試料にダメージを与えずに正確な立体形状を用いる方法において、探針の撓み信号や、捩れ信号を解析することによって必要最小限の退避量で計測できるようにし、また、横移動時の残留振動が少なくなるような制御を行うことで、測定周波数を上げて、高速な計測を実現する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
試料の表面形状を観察する走査プローブ顕微鏡であって、試料を載置する試料台と、探針と、該探針を支持する探針指持手段と、前記探針を前記試料台に載置された試料に対して高さ方向に駆動する駆動手段と、前記探針のたわみ量を検出するたわみ検出手段と、前記駆動手段を制御する制御手段と、前記たわみ検出手段で検出した前記探針のたわみの情報を用いて前記試料の表面形状像を得る処理手段とを備え、前記制御手段は、前記駆動手段で前記探針を駆動して前記試料の測定点ごとに近接・退避を繰り返し、前記探針を前記試料から退避させるときに、前記たわみ検出手段で検出した前記探針のたわみの情報を用いて退避する量を制御することを特徴とする走査プローブ顕微鏡。
IPC (5)：
G01N13/10 ,  B82B3/00 ,  G01B11/02 ,  G01B21/30 ,  G05D3/12
FI (5)：
G01N13/10 B ,  B82B3/00 ,  G01B11/02 Z ,  G01B21/30 ,  G05D3/12 305L
F-Term (36)：
2F065AA04 ,  2F065AA24 ,  2F065AA37 ,  2F065AA49 ,  2F065AA53 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065FF01 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ16 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL20 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F069AA60 ,  2F069AA66 ,  2F069BB15 ,  2F069DD15 ,  2F069GG01 ,  2F069GG07 ,  2F069GG62 ,  2F069HH07 ,  2F069JJ15 ,  2F069LL03 ,  5H303AA20 ,  5H303BB01 ,  5H303BB06 ,  5H303CC10 ,  5H303DD14 ,  5H303JJ10 ,  5H303KK09 ,  5H303KK10 ,  5H303KK31 ,  5H303MM03 ,  5H303QQ02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (6)
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