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J-GLOBAL ID：200903099776861350

放射線感受性酸発生剤を含むレジスト組成物

Inventor： グレゴリー・ブレイタ ,  リチャード・アンソニー・ディピエトロ ,  ドナルド・クリフォード・ホーファー ,  ヒロシ・イトー
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996285425
Publication number (International publication number)：1997179302
Application date： Oct. 28, 1996
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、半導体装置製造に適した、改良された化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の放射線感受性レジスト組成物は、(i)スルホン酸ヨードニウム放射線感受性酸発生剤と、(ii)重合体と、(iii)酸活性化合物とを含む。

Claim (excerpt)：

(i)スルホン酸ヨードニウム放射線感受性酸発生剤と、(ii)重合体と、(iii)酸開裂性置換基を有する酸活性化合物とを含む放射線感受性レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平4-269756
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300372   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-077419   Applicant：日本電信電話株式会社
• 放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-302537   Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-358730   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開平3-167249