Art

J-GLOBAL ID：201002254034886789   Reference number：10A0710837

Application of Cryptand to Diazo/PVA Resists

ジアゾ/PVAレジストへのクリプタンドの応用

Author (8)： OKADA Masaki (Nihon Univ., Chiba, JPN) ,  HARADA Kieko (Nihon Univ., Chiba, JPN) ,  TAKAMURA Naohide (Nihon Univ., Chiba, JPN) ,  HIAKI Toshihiko (Nihon Univ., Chiba, JPN) ,  MATSUDA Kiyomi (Nihon Univ., Chiba, JPN) ,  HAMANA Hiroshi (Saitama Inst. Technol., Saitama, JPN) ,  TAKAHARA Shigeru (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUGITA Kazuyuki (Chiba Univ., Chiba, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 23  Issue： 3  Page： 413-416  Publication year： 2010 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *diazo compound ,  *clathrate compound ,  *photolysis/photodisintegration ,  thermal decomposition ,  polyvinyl alcohol ,  photoresist ,  aromatic compound ,  thermal stability ,  *photosensitizer ,  cryptand ,  aliphatic aldehyde

JST classification (2)： Molecular compounds  (CE02000C) ,  Eight or more-membered heterocyclic compounds  (CF07120T)

Substance index (3)： Cryptand(222) ,  4-Anilinobenzenediazonium ,  Formaldehyde

Reference (14)：

• K. Harada, M. Kushida, K. Saito, K. Sugita and H. Iida, “Micro-and Nanopattering Polymers”H. Ito, E. Reichmanis, O. Naramasu and T. Ueno, eds., ACS Symp. Ser.706, Amer. Chem. Soc., Washington, D. C., 1998, pp. 126-133
• K. Harada, M. Kushida, K. Saito, K. Sugita and H. Iida, J. Imaging Sci. and Technol., 46, 159(2002)(1983)
• T. Usami, T. Tanaka and S. Ishige, Electrophotography, 26, 115(1987)
• Y. Yoshida and S. Tatsuta, Electrophotography, 26, 120
• R. A. Bartsch, H. Chen, N. F. Haddoch and P. N. Juri, J. Am. Chem. Soc., 98, 6753(1976)

Terms in the title (3)： レジスト ,  クリプタンド ,  応用