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J-GLOBAL ID：201002274240875158   Reference number：10A0700802

Effects of Aspect Ratio of Photoresist Patterns on Adhesive Strength between Microsized SU-8 Columns and Silicon Substrate under Bend Loading Condition

曲げ負荷条件でのマイクロサイズSU-8カラムとケイ素基板との接着強度に及ぼすフォトレジストパターンのアスペクト比の効果

Author (4)： ISHIYAMA Chiemi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  SHIBATA Akinobu (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  SONE Masato (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  HIGO Yakichi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 49  Issue： 6,Issue 2  Page： 06GN14.1-06GN14.5  Publication year： Jun. 25, 2010 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,  *aspect ratio ,  nanostructure ,  *columnar crystal ,  substrate(plate) ,  silicon ,  *adhesive strength ,  tensile strength ,  semiconductor
Semi thesaurus term： *SU-8

JST classification (1)： Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Reference (20)：

• R. Perez, N. Chaillet, K. Domanski, P. Janus, and P. Grabiec: Sens. Actuators A 128(2006)367.
• R. Buchner, C. Sosna, M. Maiwald, W. Benecke, and W. Lang: Sens. Actuators A 130-131(2006)262.
• W. Dieterle: Annu. Rev. Control 29(2005)273.
• M. C. Wu: J. Lightwave Technol.24(2006)4433.
• M. Yano: IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron.11(2005)383.

Terms in the title (6)： 曲げ ,  サイズ ,  カラム ,  ケイ素基板 ,  接着強度 ,  フォトレジストパターン