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J-GLOBAL ID：201002280773496256   Reference number：10A0896692

極微細加工用高分子薄膜のイオン化ダイナミクス

Author (8)： OKAMOTO KAZUMASA (北大 大学院) ,  OKAMOTO KAZUMASA (理研) ,  TAJIMA YASUHARU (北大 大学院) ,  TAJIMA YASUHARU (理研) ,  KOZAWA TAKAHIRO (大阪大 産科研) ,  KOZAWA TAKAHIRO (理研) ,  HATSUI TAKAKI (理研) ,  SUMIYOSHI TAKASHI (北大 大学院)
Material： 第4回XFEL利用ワークショップ 平成22年
Page： 10  Publication year： 2010 
JST Material Number： N20101754  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *ionization ,  *fine patterning ,  *polymer thin film ,  semiconductor process ,  extreme ultraviolet ,  photolithography ,  light source ,  time resolved spectroscopy
Semi thesaurus term： *極微細加工

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 微細加工 ,  高分子薄膜 ,  イオン化 ,  ダイナミクス