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J-GLOBAL ID：201002288971287612   Reference number：10A0346737

Electron wave interference induced by electrons emitted from Pt field emitter fabricated by focused-ion-beam-induced deposition

集束イオンビーム誘起堆積により作製したPtフィールドエミッタから放出された電子により誘起された電子波干渉

Author (4)： MURAKAMI K. (Center for Quantum Sci. and Technol. under Extreme Conditions, Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka, Osaka ...) ,  MATSUO T. (Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka, Osaka 560-8531, JPN) ,  WAKAYA F. (Center for Quantum Sci. and Technol. under Extreme Conditions, Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka, Osaka ...) ,  TAKAI M. (Center for Quantum Sci. and Technol. under Extreme Conditions, Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka, Osaka ...)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology & Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, & Phenomena)
Volume： 28  Issue： 2  Page： C2A9  Publication year： Mar. 2010 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *platinum ,  metallic thin film ,  ion beam deposition ,  *electron emission ,  field emission electron microscope ,  field ion microscope ,  nano crystal ,  interference
Semi thesaurus term： *field emitter ,  集束イオンビーム蒸着 ,  *striped structure ,  電子波干渉

JST classification (3)： Thermoionic emission and field emission  (BM09020S) ,  Other solid-state devices  (NC03150A) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (10)： 集束イオンビーム ,  誘起 ,  堆積 ,  作製 ,  Pt ,  フィールドエミッタ ,  放出 ,  電子 ,  電子波 ,  干渉