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J-GLOBAL ID：201002291522620103   Reference number：10A0133838

An Extreme Ultraviolet Source for Photolithographic Applications Based on Rotamak Discharge

Rotomak放電に基づいたフォトリソグラフィー応用のための極端紫外線源

Author (4)： HUGRASS Waheed (Univ. Tasmania, Tasmania, AUS) ,  OHNISHI Masami (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  CHIKANO Tomonori (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  TSUKAMOTO Masanobu (Kansai Univ., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 49  Issue： 1,Issue 1  Page： 016201.1-016201.4  Publication year： Jan. 25, 2010 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： light source ,  radiation source ,  *plasma ,  *Xenon ,  oscillator ,  rotational magnetic field ,  *electric discharge ,  photolithography ,  *EUV light source ,  electrodeless discharge
Semi thesaurus term： *EUV light source ,  electrodeless

JST classification (2)： Radiation sources,irradiation equipment  (MC01020V) ,  Plasma production and heating  (BJ02060E)

Reference (17)：

• B. Santo: IEEE Spectrum 44(2007) No.8, 12.
• H. Fiedorowicz: Laser Part. Beams 23(2005)365.
• S. R. Das: IEEE Spectrum 45(2008) No.3, 14.
• C. Suzuki, H. Nishimura, M. Ochiai, T. Kato, S. Okamura, R. More, K. Nishihara, M. Nakai, K. Shigemori, S. Fujioka, and H. Ogawa: J. Plasma Fusion Res.81(2005)480.
• S. F. Home, M. M. Besen, D. K. Smith, P. A. Blackborow, and R. D’Agostino: Proc. SPIE 6151(2006)61510P.

Terms in the title (4)： 放電 ,  フォトリソグラフィー ,  応用 ,  極端紫外線