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J-GLOBAL ID：201002294068437390   Reference number：10A1086237

The relationship between mounting pressure and time on final photomask flatness

最終的なフォトマスクの平坦性のための取付け圧力と時間との関係

Author (7)： MIZOGUCHI Takashi (Toppan Photomasks, Inc (USA)) ,  BARRETT Monica (IBM Corp. (USA), VT, USA) ,  AKUTAGAWA Satoshi (Toppan Photomasks, Inc (USA)) ,  CATERER Michael (IBM Corp. (USA), VT, USA) ,  NOLAN Robert (IBM Corp. (USA), VT, USA) ,  PLOUFFE Dennis (IBM Corp. (USA), VT, USA) ,  ZHOU Nancy (IBM Corp. (USA), VT, USA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7748  Page： 77480C.1-77480C.8  Publication year： 2010 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photomask ,  protective film ,  flatness(property) ,  *shape control ,  pressure effect ,  time dependence ,  packaging(mounting) ,  *positioning ,  accuracy ,  deformation ,  photolithography

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： フォトマスク ,  平坦性 ,  取付け