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J-GLOBAL ID：201003005617590857

耐汚れ性に優れた選択的分離膜

Inventor：
ジャ-ヨン,クー

About ジャ-ヨン,クー

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ソン ピョ,ホン

About ソン ピョ,ホン

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ジョン ファ,リー

About ジョン ファ,リー

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クァン ヨン,リュウ

About クァン ヨン,リュウ


Applicant, Patent owner：
セハン インダストリーズ インコーポレーション

About セハン インダストリーズ インコーポレーション


Agent (1)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010162131
Publication number (International publication number)：2010240651
Application date： Jul. 16, 2010
Publication date： Oct. 28, 2010
Summary：
【課題】耐汚れ性に優れた選択的分離膜を提供する。【解決手段】本発明による選択的分離膜は、親水性コーティングが分離膜のポリアミド層に施されたポリアミド逆浸透複合膜である。前記親水性コーティングは、親水性化合物をポリアミド分離膜の残余の酸塩化物に共有結合させて施され、前記親水性化合物は、(i)前記ポリアミド層に直接的に共有結合される少なくとも一つの反応性基であり、前記少なくとも一つの反応性基が少なくとも一つの1級アミンまたは2級アミンであり、(ii)少なくとも一つの親水性基であり、前記少なくとも一つの親水性基がヒドロキシ基、カルボニル基、トリアルコキシシラン基、アニオン基、3級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの親水性基であり、(iii)前記親水性化合物がポリアルキレンオキシド基を含んでいないものよりなる。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(a)多孔性支持体と、 (b)前記多孔性支持体上のポリアミド層と、 (c)前記ポリアミド層上に施された親水性コーティングと、からなり、前記親水性コーティングが親水性化合物をポリアミド層の残余の酸塩化物に共有結合させることにより施され、前記親水性化合物が(i)前記ポリアミド層に直接的に共有結合される少なくとも一つの反応性基である少なくとも一つの1級アミンまたは2級アミンを含む親水性アミノ化合物であり、(ii)複数のヒドロキシ基、カルボニル基、トリアルコキシシラン基、アニオン基、3級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、但し(iii)前記親水性基がポリアルキレンオキシド基ではないことを特徴とするポリアミド逆浸透複合膜。
IPC (5)：
B01D 71/56 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/82 ,  B01D 61/02
FI (6)：
B01D71/56 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/82 500 ,  B01D61/02 ,  B01D71/82
F-Term (33)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MB01 ,  4D006MB02 ,  4D006MB09 ,  4D006MB11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC29 ,  4D006MC37 ,  4D006MC39 ,  4D006MC54 ,  4D006MC56X ,  4D006MC58 ,  4D006MC59 ,  4D006MC62X ,  4D006MC63 ,  4D006MC71X ,  4D006MC74X ,  4D006MC75X ,  4D006MC77X ,  4D006MC78X ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA60 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB52 ,  4D006PC11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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