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J-GLOBAL ID：201003008915377782

重水素(D2)および重水素化水素(HD)の少なくとも一方を製造する方法、並びにこれに使用するギ酸分解用触媒

Inventor：
福住 俊一

About 福住 俊一

, 
小林 岳史

About 小林 岳史

, 
末延 知義

About 末延 知義


Applicant, Patent owner：
国立大学法人大阪大学

About 国立大学法人大阪大学


Agent (4)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ ,  吉田 玲子 ,  伊佐治 創
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009060187
Publication number (International publication number)：2010208927
Application date： Mar. 12, 2009
Publication date： Sep. 24, 2010
Summary：
【課題】水素同位体ガスを、安全に、簡便かつきわめて効率的に低コストで製造する方法を提供する。【解決手段】複核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むギ酸分解用触媒と、ギ酸と、溶媒とを含み、前記ギ酸および前記溶媒の少なくとも一方が重水素化されているギ酸溶液を準備する準備工程と、前記溶液を静置するか、加熱するか、または光照射することによりギ酸を分解させて重水素(D2)および重水素化水素(HD)の少なくとも一方を発生させるギ酸分解工程とを含む、重水素(D2)および重水素化水素(HD)の少なくとも一方を製造するための製造方法。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
下記式(1)で表される複核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むギ酸分解用触媒と、ギ酸と、溶媒とを含み、前記ギ酸および前記溶媒の少なくとも一方が重水素化されているギ酸溶液を準備する準備工程と、 前記溶液を静置するか、加熱するか、または光照射することによりギ酸を分解させて重水素(D2)および重水素化水素(HD)の少なくとも一方を発生させるギ酸分解工程とを含む、 重水素(D2)および重水素化水素(HD)の少なくとも一方を製造するための製造方法。
IPC (2)：
C01B 3/32 ,  B01J 31/22
FI (2)：
C01B3/32 Z ,  B01J31/22 M
F-Term (32)：
4G140DA02 ,  4G140DB05 ,  4G140DC01 ,  4G169AA06 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA28A ,  4G169BA28B ,  4G169BC29A ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC65A ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BC71A ,  4G169BC73A ,  4G169BC74A ,  4G169BC74B ,  4G169BC75A ,  4G169BE06A ,  4G169BE08A ,  4G169BE14A ,  4G169BE16A ,  4G169BE16B ,  4G169BE20A ,  4G169BE22A ,  4G169BE33A ,  4G169BE36A ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169CB81 ,  4G169FA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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