Pat
J-GLOBAL ID:201003012343983390
微細エマルション組成物、およびその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岩橋 祐司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008185274
Publication number (International publication number):2010024161
Application date: Jul. 16, 2008
Publication date: Feb. 04, 2010
Summary:
【課題】本発明は、肌荒れ改善効果を有し、安全性、使用感触、特にべたつき感がなく、みずみずしさが良好で、且つ基剤安定性に優れた微細エマルション組成物を提供することを目的とする。【解決手段】(a)下記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体と、(b)油性成分と、(c)ポリオールと、(d)水と、を含有し、前記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体を0.1〜20質量%配合し、平均粒子径が10〜300nmであることを特徴とする微細エマルション組成物。(化1)(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、l、m及びnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦l+n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は20〜80質量%である。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子である。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
(a)下記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体と、
(b)油性成分と、
(c)ポリオールと、
(d)水と、
を含有し、前記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体を0.1〜20質量%配合し、平均粒子径が10〜300nmであることを特徴とする微細エマルション組成物。
(化1)
IPC (20):
A61K 8/86
, A61K 9/107
, A61K 47/34
, A61K 47/14
, A61K 47/10
, A61K 8/37
, A61K 8/34
, A61K 8/06
, A61P 17/00
, A61P 17/16
, A61Q 19/00
, A61Q 5/12
, A61K 47/26
, A61K 47/06
, A61K 8/60
, A61K 8/31
, A61K 47/44
, A61K 8/97
, B01J 13/00
, B01F 17/42
FI (20):
A61K8/86
, A61K9/107
, A61K47/34
, A61K47/14
, A61K47/10
, A61K8/37
, A61K8/34
, A61K8/06
, A61P17/00
, A61P17/16
, A61Q19/00
, A61Q5/12
, A61K47/26
, A61K47/06
, A61K8/60
, A61K8/31
, A61K47/44
, A61K8/97
, B01J13/00 A
, B01F17/42
F-Term (87):
4C076AA17
, 4C076BB31
, 4C076CC18
, 4C076DD30Z
, 4C076DD34
, 4C076DD37
, 4C076DD38
, 4C076DD43Z
, 4C076DD45
, 4C076DD46
, 4C076DD49
, 4C076DD51F
, 4C076DD59S
, 4C076DD69
, 4C076EE23F
, 4C076EE53
, 4C076EE58
, 4C076FF11
, 4C076FF16
, 4C076FF68
, 4C076GG41
, 4C083AA112
, 4C083AA121
, 4C083AA122
, 4C083AB032
, 4C083AC011
, 4C083AC012
, 4C083AC102
, 4C083AC121
, 4C083AC122
, 4C083AC131
, 4C083AC132
, 4C083AC302
, 4C083AC342
, 4C083AC351
, 4C083AC352
, 4C083AC422
, 4C083AC432
, 4C083AC442
, 4C083AC532
, 4C083AC582
, 4C083AC622
, 4C083AC662
, 4C083AC692
, 4C083AD041
, 4C083AD042
, 4C083AD051
, 4C083AD052
, 4C083AD391
, 4C083AD392
, 4C083AD532
, 4C083AD642
, 4C083BB02
, 4C083BB04
, 4C083BB13
, 4C083CC04
, 4C083CC33
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD35
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE10
, 4C083EE12
, 4C083EE28
, 4C083EE29
, 4C083FF05
, 4D077AA02
, 4D077AA09
, 4D077AB11
, 4D077AB12
, 4D077AC01
, 4D077DC19X
, 4G065AA01
, 4G065AB03X
, 4G065AB05X
, 4G065AB07Y
, 4G065AB10X
, 4G065AB11X
, 4G065AB12X
, 4G065AB12Y
, 4G065BA07
, 4G065BA12
, 4G065BB06
, 4G065CA02
, 4G065DA01
, 4G065DA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
-
特公平6-61454公報
-
微細エマルション組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-299043
Applicant:株式会社ノエビア
-
マイクロエマルション組成物およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-262330
Applicant:株式会社ノエビア
-
水中油型マイクロエマルション及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-267352
Applicant:株式会社ノエビア
-
皮膚外用剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-227726
Applicant:株式会社資生堂
-
皮膚バリア機能改善組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-025752
Applicant:積水化学工業株式会社
-
特許第3667291号公報
-
皮膚外用剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-279777
Applicant:株式会社ノエビア
-
皮膚化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-095859
Applicant:鐘紡株式会社
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Cited by examiner (9)
-
ゲル状組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-011982
Applicant:株式会社資生堂
-
ゲル状洗浄組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-207368
Applicant:株式会社資生堂
-
一相マイクロエマルション組成物、及びO/W超微細エマルション外用剤の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-198435
Applicant:株式会社資生堂
-
除草剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-141196
Applicant:株式会社資生堂
-
皮膚外用剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-283620
Applicant:株式会社資生堂
-
水中油型エマルション
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-162029
Applicant:株式会社資生堂
-
油中水型乳化組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-044265
Applicant:株式会社資生堂
-
皮膚外用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-083562
Applicant:株式会社資生堂
-
メーキャップ化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-352343
Applicant:株式会社資生堂
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