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J-GLOBAL ID:201003020985860987
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 菅野 亨
, 溝口 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008289499
Publication number (International publication number):2010115731
Application date: Nov. 12, 2008
Publication date: May. 27, 2010
Summary:
【課題】微細な遊離砥粒及び硬度の低い研磨パッドを用いて研磨を行う場合においても、良好な表面粗さを維持しつつ端部形状の悪化を改善すること。【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、キャリア4から一部を露出させた状態で保持されたガラス基板5の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板5の外周近傍における研磨パッド1のキャリア4側への移動を規制した状態で当該研磨パッド1をガラス基板5の主表面に密着させ、キャリア4を回転させてガラス基板5の主表面を研磨することを特徴とする。【選択図】図2
Claim (excerpt):
キャリアから一部を露出させた状態で保持されたガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の外周近傍における研磨パッドの前記キャリア側への移動を規制した状態で当該研磨パッドを前記ガラス基板の主表面に密着させ、前記キャリアを回転させて前記ガラス基板の主表面を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (3):
B24B 37/04
, G11B 5/84
, G11B 5/73
FI (4):
B24B37/04 E
, B24B37/04 C
, G11B5/84 A
, G11B5/73
F-Term (15):
3C058AA07
, 3C058AB04
, 3C058AB08
, 3C058AB09
, 3C058CA06
, 3C058CB02
, 3C058DA06
, 3C058DA17
, 3C058DA18
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D112AA02
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112GA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (3)
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ウエーハの両面研磨方法と該研磨方法に用いるウエーハキャリア
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-080308
Applicant:信越半導体株式会社
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ラッピング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-248572
Applicant:株式会社村田製作所
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両面研磨用テンプレートおよびこれを用いた両面研磨方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-348987
Applicant:東芝セラミックス株式会社, 株式会社東芝
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