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J-GLOBAL ID：201003026237702692

テンプレート検査方法および欠陥検査装置

Inventor： 米田 郁男 ,  中杉 哲郎 ,  伊藤 正光 ,  稲浪 良市
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008245559
Publication number (International publication number)：2010078400
Application date： Sep. 25, 2008
Publication date： Apr. 08, 2010
Summary：

【課題】テンプレートの高精度な欠陥検査を容易に行うことができるテンプレート検査方法を得ること。【解決手段】ナノインプリントのパターン形成に用いるテンプレートのテンプレート検査方法であって、平坦なウェハW上に塗布した色付きレジストR2にテンプレートTのパターン形成面を近接させるとともに、色付きレジストR2をテンプレートTのパターン内に充填させる流体充填ステップと、テンプレートTとウェハWとの間に色付きレジストR2を挟んだ状態でテンプレートTを光学観察することによって、テンプレートTの欠陥検査を行う欠陥検査ステップと、を含み、色付きレジストR2とテンプレートTとの光学定数の差を、空気とテンプレートTとの光学定数の差よりも大きくしておく。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

ナノインプリントのパターン形成に用いるテンプレートのテンプレート検査方法であって、 平坦な基板上に塗布した流体に前記テンプレートのパターン形成面を近接させるとともに、前記流体を前記テンプレートのパターン内に充填させる流体充填ステップと、 前記テンプレートと前記基板との間に前記流体を挟んだ状態で前記テンプレートを光学観察することによって、前記テンプレートの欠陥検査を行う欠陥検査ステップと、 を含み、 前記流体と前記テンプレートとの光学定数の差が、空気と前記テンプレートとの光学定数の差よりも大きいことを特徴とするテンプレート検査方法。

IPC (1)：

G01N 21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (9)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051DA17 ,  2G051EA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• デバイス製作のためのリソグラフィ・プロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-224839   Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• パタ-ン形成方法及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-370629   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (4)

• マスク検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-350157   Applicant：レーザーテック株式会社
• デバイス製作のためのリソグラフィ・プロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-224839   Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• パタ-ン形成方法及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-370629   Applicant：富士通株式会社
• 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-313897   Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ