マスク検査装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：家入健
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006350157
Publication number (International publication number)：2008134214
Application date： Dec. 26, 2006
Publication date： Jun. 12, 2008
Summary：

【課題】高分解能のマスク検査装置を提供すること。【解決手段】本発明のマスク検査装置100では、マスク108のパターン面108cの裏面側に対物レンズ112を配置した構成になっているため、パターン面108cと、対物レンズ112との間に、空気層を形成させることなく、屈折率約1.44の純水114と屈折率約1.56のマスク基板108aだけであるため、液浸光学系を形成できる。これによって、同じ検査波長を用いた場合であっても、従来のマスク検査装置に比べ、分解能を向上することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マスク基板に設けられたパターンを観察して、マスクを検査するマスク検査装置であって、対物レンズを有し、前記対物レンズの前記マスク側の最端レンズと前記マスクとの間が液体で満たされているマスク検査装置。

IPC (3)：

G01N 21/956 , G03F 1/16 , H01L 21/027

FI (3)：

G01N21/956 A , G03F1/16 F , H01L21/30 502P

F-Term (15)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AC11 , 2G051BA10 , 2G051CC07 , 2G051CC09 , 2G051CC11 , 2G051CC15 , 2G051DA07 , 2H095BA02 , 2H095BD02 , 2H095BD03 , 2H095BD13 , 2H095BD20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

CW深紫外線光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-259075 Applicant：サイバーレーザー株式会社
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-313897 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに欠陥検査システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-160630 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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Cited by examiner (13)

パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-001603 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
特開平4-340242
特開平4-340242

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