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J-GLOBAL ID:201003032773430832

微粒子合成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010516645
Publication number (International publication number):2010533124
Application date: Jul. 14, 2008
Publication date: Oct. 21, 2010
Summary:
アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を含む前ゾル溶液の、アンモニウム触媒による加水分解及び縮合反応によりゾルを調製し、平均径が約50μm以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程;粒子を熱水処理して細孔径を増加させる工程;粒子を処理して残留する構造規定剤を除去する工程;及び制御された溶解を用いて細孔径を更に増加させる工程、を含むメソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
Claim (excerpt):
アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を、含む前ゾル溶液の、アンモニウムが触媒する加水分解及び縮合反応によりゾルを調製して、平均径が約50μm以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程; 前記粒子を熱水処理して細孔サイズを増加させる工程; 残留する前記構造規定剤を除去するために前記粒子を処理する工程;及び 制御された溶解を用いて細孔サイズを更に増加させる工程 を含む、メソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
IPC (4):
C01B 33/12 ,  G01N 30/88 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30
FI (6):
C01B33/12 Z ,  G01N30/88 101K ,  G01N30/88 201G ,  G01N30/88 201X ,  B01J20/10 A ,  B01J20/30
F-Term (48):
4G066AA13D ,  4G066AA14D ,  4G066AA16D ,  4G066AA22B ,  4G066AA52D ,  4G066AB06D ,  4G066AB09D ,  4G066AB13D ,  4G066AB18A ,  4G066AB21D ,  4G066AB24D ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066EA01 ,  4G066FA05 ,  4G066FA31 ,  4G066FA34 ,  4G066FA37 ,  4G066FA38 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ33 ,  4G072JJ38 ,  4G072JJ42 ,  4G072KK03 ,  4G072KK07 ,  4G072KK15 ,  4G072MM17 ,  4G072NN27 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11 ,  4G072UU13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 球状シリカ系メソ多孔体の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-322778   Applicant:株式会社豊田中央研究所
  • ナノポーラス体及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-257266   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社物産ナノテク研究所
  • 特開平1-230421
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