Pat
J-GLOBAL ID:201003034310095999
放射性同位元素の製造方法及び装置
Inventor:
,
,
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010008608
Publication number (International publication number):2010223944
Application date: Jan. 18, 2010
Publication date: Oct. 07, 2010
Summary:
【課題】濃縮235Uを使用せず、高強度で半減期の長い放射性廃棄物を多量に発生させることなく、効率よく廉価に放射性同位元素の安定供給ができる技術を提供する。【解決手段】固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、1個の中性子の照射により3個の中性子を放出する(n,3n)反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする。【選択図】なし
Claim (excerpt):
固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、1個の中性子の照射により3個の中性子を放出する(n,3n)反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする放射性同位元素の製造方法。
IPC (6):
G21G 1/06
, G21G 1/10
, G21K 5/08
, H05H 3/06
, H05H 6/00
, A61N 5/10
FI (9):
G21G1/06
, G21G1/10
, G21K5/08 R
, G21K5/08 C
, G21K5/08 N
, H05H3/06
, H05H6/00
, A61N5/10 A
, A61N5/10 C
F-Term (13):
2G085BA17
, 2G085BD01
, 2G085BE02
, 2G085BE06
, 2G085EA07
, 4C082AA05
, 4C082AA07
, 4C082AC03
, 4C082AE01
, 4C082AE05
, 4C082AG04
, 4C082AG05
, 4C082AV08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
高エネルギ発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-248101
Applicant:財団法人レーザー技術総合研究所
-
照射装置用ターゲット、および照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017243
Applicant:三菱重工業株式会社
-
中性子駆動元素変換器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-503620
Applicant:ヨーロピアン・オーガニゼーション・フォア・ニュークリア・リサーチ
-
特開平2-148700
-
慣性静電閉じ込め核融合装置およびラジオアイソトープ製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250290
Applicant:株式会社日立製作所
-
低速陽電子ビーム発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-060479
Applicant:株式会社島津製作所
Show all
Cited by examiner (6)
-
高エネルギ発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-248101
Applicant:財団法人レーザー技術総合研究所
-
照射装置用ターゲット、および照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017243
Applicant:三菱重工業株式会社
-
中性子駆動元素変換器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-503620
Applicant:ヨーロピアン・オーガニゼーション・フォア・ニュークリア・リサーチ
-
特開平2-148700
-
慣性静電閉じ込め核融合装置およびラジオアイソトープ製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250290
Applicant:株式会社日立製作所
-
低速陽電子ビーム発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-060479
Applicant:株式会社島津製作所
Show all
Return to Previous Page