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J-GLOBAL ID:201003034310095999

放射性同位元素の製造方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010008608
Publication number (International publication number):2010223944
Application date: Jan. 18, 2010
Publication date: Oct. 07, 2010
Summary:
【課題】濃縮235Uを使用せず、高強度で半減期の長い放射性廃棄物を多量に発生させることなく、効率よく廉価に放射性同位元素の安定供給ができる技術を提供する。【解決手段】固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、1個の中性子の照射により3個の中性子を放出する(n,3n)反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする。【選択図】なし
Claim (excerpt):
固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、1個の中性子の照射により3個の中性子を放出する(n,3n)反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする放射性同位元素の製造方法。
IPC (6):
G21G 1/06 ,  G21G 1/10 ,  G21K 5/08 ,  H05H 3/06 ,  H05H 6/00 ,  A61N 5/10
FI (9):
G21G1/06 ,  G21G1/10 ,  G21K5/08 R ,  G21K5/08 C ,  G21K5/08 N ,  H05H3/06 ,  H05H6/00 ,  A61N5/10 A ,  A61N5/10 C
F-Term (13):
2G085BA17 ,  2G085BD01 ,  2G085BE02 ,  2G085BE06 ,  2G085EA07 ,  4C082AA05 ,  4C082AA07 ,  4C082AC03 ,  4C082AE01 ,  4C082AE05 ,  4C082AG04 ,  4C082AG05 ,  4C082AV08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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