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J-GLOBAL ID：201003055907225181

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液

Inventor：
上村 聡

About 上村 聡

, 
樽谷 晋司

About 樽谷 晋司


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009269342
Publication number (International publication number)：2010152353
Application date： Nov. 26, 2009
Publication date： Jul. 08, 2010
Summary：
【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するためのパターン形成において欠陥を著しく低減できる有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びその方法に用いるリンス液。【解決手段】酸の作用により極性が増大し、有機溶剤を含有する現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有する有機溶剤系現像用レジスト組成物によりレジスト膜を形成する工程、露光工程、有機溶剤を含有する現像液を用いた現像工程、並びに、溶剤S1及びS2の少なくともいずれかを含有するリンス液を用いた洗浄工程(S1:分岐及び環状構造の少なくもいずれかを含むアルキル鎖を有し、該アルキル鎖における2級又は3級炭素原子が水酸基と結合している、炭素数が少なくとも5であるアルコール、S2:炭素数が少なくとも5であるアルキル基及び炭素数が少なくとも5であるシクロアルキル基の少なくともいずれかを有するジアルキルエーテル)を用いるパターン形成方法及び該リンス液。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(ア)酸の作用により極性が増大し、有機溶剤を含有する現像液に対する溶解度が減少する樹脂(A)、及び、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物(B)を含有する有機溶剤系現像用レジスト組成物によりレジスト膜を形成する工程、 (イ)露光工程、 (ウ)有機溶剤を含有する現像液を用いた現像工程、並びに (エ)リンス液を用いた洗浄工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法であって、 工程(エ)において、以下の溶剤S1及びS2の少なくともいずれかを含有するリンス液を用いることを特徴とするパターン形成方法。 溶剤S1:分岐及び環状構造の少なくもいずれかを含むアルキル鎖を有し、該アルキル鎖における2級又は3級炭素原子が水酸基と結合している、炭素数が少なくとも5であるアルコール 溶剤S2:炭素数が少なくとも5であるアルキル基及び炭素数が少なくとも5であるシクロアルキル基の少なくともいずれかを有するジアルキルエーテル
IPC (5)：
G03F 7/32 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/038
FI (5)：
G03F7/32 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 569E ,  C08F20/10 ,  G03F7/038 601
F-Term (64)：
2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA18 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF52P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ01Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ66Y ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ74Y ,  2H125AJ88Y ,  2H125AJ90Y ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC07 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA40P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38 ,  5F046LA14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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