Pat
J-GLOBAL ID:201003062472788614
金クラスター錯体から製造された触媒を用いるヒドロ酸化法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (6):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 小林 良博
, 出野 知
, 蛯谷 厚志
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2009537275
Publication number (International publication number):2010510048
Application date: Nov. 07, 2007
Publication date: Apr. 02, 2010
Summary:
炭素数3又はそれ以上を有するオレフィン、例えばプロピレンをヒドロ酸化して、オレフィンオキシド、例えばプロピレンオキシドを生成するための方法及び触媒。この方法は、ナノ多孔質チタン含有担体上に沈着された金ナノ粒子を含むヒドロ酸化触媒及び水素の存在下で反応条件下においてオレフィンを酸素と接触させることを含む。ヒドロ酸化触媒は、金-配位子クラスター錯体を担体上に沈着させて触媒前駆体を形成し、次いで前記触媒前駆体を加熱及び/又は化学処理してヒドロ酸化触媒組成物を形成することによって製造する。ヒドロ酸化触媒は、安定した触媒活性、向上した寿命及び改善された水素効率を示す。
Claim (excerpt):
触媒前駆体の形成に充分な条件下で、金-配位子クラスター錯体をチタン含有担体上に沈着させ、次いで触媒の形成に充分な条件下で、前記触媒前駆体を加熱及び/又は化学処理することによって製造された、ナノ多孔質チタン含有担体の粒子上に沈着された金ナノ粒子を含んでなる触媒組成物。
IPC (4):
B01J 29/89
, B01J 37/08
, C07D 303/04
, C07D 301/10
FI (4):
B01J29/89 Z
, B01J37/08
, C07D303/04
, C07D301/10
F-Term (67):
4C048AA01
, 4C048BB02
, 4C048CC01
, 4C048UU03
, 4C048XX05
, 4G169AA03
, 4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169BA15A
, 4G169BA28A
, 4G169BA28B
, 4G169BB12B
, 4G169BB16B
, 4G169BC02A
, 4G169BC02B
, 4G169BC03B
, 4G169BC04B
, 4G169BC05B
, 4G169BC06B
, 4G169BC32A
, 4G169BC32B
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169BC50A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD01B
, 4G169BD02A
, 4G169BD05A
, 4G169BD06A
, 4G169BD07A
, 4G169BD12A
, 4G169BD12B
, 4G169BD15A
, 4G169BD15B
, 4G169BE01A
, 4G169BE08B
, 4G169BE13A
, 4G169BE14A
, 4G169BE21A
, 4G169BE25A
, 4G169BE27B
, 4G169BE33B
, 4G169BE34B
, 4G169BE41A
, 4G169BE41B
, 4G169BE42A
, 4G169BE45A
, 4G169BE46B
, 4G169CB07
, 4G169CB09
, 4G169CB73
, 4G169DA06
, 4G169EB01
, 4G169EB18X
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FC08
, 4G169ZA11A
, 4G169ZA12A
, 4G169ZA37A
, 4G169ZA37B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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