電算機室用空調システム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008188930
Publication number (International publication number)：2010026872
Application date： Jul. 22, 2008
Publication date： Feb. 04, 2010
Summary：

【課題】機器収容用ラックに収容された機器を冷却することにより暖められた空気が機器収容用ラック間の通路空間内に混入することを防止して冷却効率の向上を図ることができるとともに、必要に応じて通路の外部のガス(前述の空気や不活性ガス)を通路空間内に導入することができる電算機室用空調システムを提供する。【解決手段】電算機室用空調システムであって、通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体10と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、を有し、これら上部遮蔽体10及び端部遮蔽体によって通路空間が画成されており、これら上部遮蔽体10及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部11,12が設けられており、ガス導入部11、12から前記通路空間内に外部ガスを導入する構成とされていることを特徴とする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

電算機室内において床下に内部空間を有する通路を挟んで両側に設置され、前面から給気して上面又は背面から熱を帯びた空気を吹き出す機器収容用ラックと、空気調和装置とを備え、前記空気調和装置から吹き出された冷却用空気が、前記内部空間を流動して、前記通路に設けられた孔からさらに前記通路の床上に流動し、この冷却用空気が前記ラックに収容された機器を冷却した後、前記ラックの上方の空間を流動して前記空気調和装置に再び吸引される電算機室用空調システムであって、前記通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、を有し、これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体によって通路空間が画成されており、これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部が設けられており、このガス導入部から前記通路空間内に外部ガスを導入する構成とされていることを特徴とする電算機室用空調システム。

IPC (1)：

G06F 1/20

FI (3)：

G06F1/00 360C , G06F1/00 360B , G06F1/00 360D

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特許第3835615号公報

Cited by examiner (8)

空調システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-202768 Applicant：鹿島建設株式会社
機器収容用ラック、電算機室用空気調和装置および電算機室用空調システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-390676 Applicant：株式会社エヌ・ティ・ティファシリティーズ
電算機室用空調及びシステム排気誘導装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-248066 Applicant：株式会社エヌ・ティ・ティファシリティーズ

Show all

Return to Previous Page