微粒子測定装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩橋祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009082788
Publication number (International publication number)：2010236920
Application date： Mar. 30, 2009
Publication date： Oct. 21, 2010
Summary：

【課題】被検試料の面上に存在する微粒子を測定するに際し、面測定の測定速度が大であり、かつ測定精度が高い微粒子測定装置を提供すること。【解決手段】本発明の微粒子測定装置10は、レーザー光源16から出射されるビーム状のレーザー光を、ウェハの如き被検試料26上でX軸方向に走査するAO偏向器20と、レーザー走査位置に第一焦点を有するレーザー光の被検試料26に対する入射方向に対し、正反射方向へ反射する不要光を吸収させるレーザー・トラップ38と、正反射以外の方向へ反射するミー散乱光を集光する検出用集光レンズ系28と、該集光レンズ系28により集光された光が結像する第二焦点位置に設置され、レーザー光による走査領域形状に対応する迷光除去のためのアパーチャ30と、該アパーチャ30の開口31を通過した光を受光する受光器36と、被検試料26をY軸方向に移動させる可動ステージ14とからなる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

レーザー光源から出射されるビーム状のレーザー光を、被検試料上で少なくとも一軸方向に走査する走査手段と、レーザー光を走査させる被検試料上で最小径に集光させる集光手段と、レーザー走査位置に第一焦点を有し、前記レーザー光の被検試料への入射方向に対し、正反射方向の反射光を吸収する不要反射光吸収手段と、正反射以外の方向のミー散乱光を集光する集光手段と、前記集光手段により集光された光が結像する第二焦点位置に設置され、前記レーザー光の走査領域形状に対応する開口を有する迷光除去手段と、前記迷光除去手段の開口を通過した光を受光する受光手段とを備えたことを特徴とする微粒子測定装置。

IPC (1)：

G01N 15/02

FI (1)：

G01N15/02 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

半導体デバイス製造装置におけるウェーハ近傍微粒子の検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-303565 Applicant：インサイテック,インコーポレーテッド
試料検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-109593 Applicant：三菱重工業株式会社
特開昭59-065428

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