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J-GLOBAL ID：201003079540776085
レジスト用共重合体の製造方法。
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008309059
Publication number (International publication number)：2010132752
Application date： Dec. 03, 2008
Publication date： Jun. 17, 2010
Summary：
【課題】組成と物性の安定したレジスト用共重合体を供給する。【解決手段】本発明は、アセタール基を有する(メタ)アクリル系単量体と、該単量体と共重合可能な他の(メタ)アクリル系単量体とを、上記単量体の合計量100質量部に対して0.016質量部以上の塩基性化合物共存下で重合するレジスト用共重合体の製造方法を提供する。さらに、本発明は、上記レジスト用共重合体を含むレジスト用組成物を提供する。さらに、本発明は、上記レジスト組成物と光酸発生剤とを含む組成物を、被加工基板上に塗布しレジスト膜を形成する工程と、上記レジスト膜に450nm以下の波長の光を照射して潜像を形成する工程と、上記潜像が形成されたレジスト膜を現像液で現像処理する工程とを有する、パターンが形成された基板の製造方法を提供する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
アセタール基を有する(メタ)アクリル系単量体と、該単量体と共重合可能な他の(メタ)アクリル系単量体とを、前記単量体の合計量100質量部に対して0.016質量部以上の塩基性化合物共存下で重合するレジスト用共重合体の製造方法。
IPC (3)：
C08F 2/44
, G03F 7/039
, H01L 21/027
C08F2/44 B
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC04
, 2H025FA17
, 4J011AA05
, 4J011PA36
, 4J011PB40
, 4J011PC02
, 4J011QA03
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (7)
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ビニル系重合体の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-323056
Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平10-012406
Applicant：住友化学工業株式会社
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特開昭58-118641
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