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J-GLOBAL ID：201003085952472269

粒子物性測定装置

Inventor：
山口 哲司

About 山口 哲司

, 
伊串 達夫

About 伊串 達夫


Applicant, Patent owner：
株式会社堀場製作所

About 株式会社堀場製作所


Agent (3)： 西村 竜平 ,  佐藤 明子 ,  齊藤 真大
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008247414
Publication number (International publication number)：2010078469
Application date： Sep. 26, 2008
Publication date： Apr. 08, 2010
Summary：
【課題】光検出手段が単一の構成でありながらも測定精度を担保でき、しかも光学素子の数を可及的に減少させてコストアップの抑制や調整箇所の低減を図ることが可能な粒子物性測定装置を提供する。【解決手段】 照射光学系機構2として入射側偏光子24及び入射側1/4波長板25を有するとともに、受光光学系機構3としてセル4を中心に複数の角度位置に回転可能な出射側1/4波長板33及び出射側偏光子34を有する粒子物性測定装置1において、光路上に変更状態を変化さセル4ことのない減光手段23を設け、各測定位置での検出光強度が光検出手段31の測定レンジ内に収まるように、減光手段23による減光率を制御するようにした。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
分散媒中に微小な粒子を分散させた試料を収容する透明セルと、 光源、並びにこの光源から射出された一次光が前記セルに至るまでの光路上に順に設けられた入射側偏光子及び入射側1/4波長板を有する照射光学系機構と、 受光した光の強度を検出する光検出手段、並びに前記セル中の粒子で散乱した二次光が前記光強度検出手段に至るまでの光路上に順に設けられた出射側1/4波長板及び出射側偏光子を有し、前記セルを中心に回転可能に支持された受光光学系機構と、 前記一次光又は二次光を偏光状態を変化させることなくかつ減衰率を変更可能に減光する減光手段と、 前記受光光学系機構を複数の回転角度位置に制御するとともに、各回転角度位置において前記出射側偏光子の偏光角度を複数の角度に制御する角度制御部と、 前記各回転角度位置での各偏光角度それぞれにおける検出光強度が前記光検出手段の測定レンジ内に収まるように、前記減光手段による減光率を制御する減光率制御部と、 前記各回転角度位置での各偏光角度それぞれにおける減光率及び減光後における検出光強度に基づいて前記粒子の物性を算出する物性算出部とを具備していることを特徴とする粒子物性測定装置。
IPC (3)：
G01N 15/02 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/49
FI (3)：
G01N15/02 A ,  G01N21/21 Z ,  G01N21/49 Z
F-Term (17)：
2G059AA03 ,  2G059BB06 ,  2G059BB09 ,  2G059BB12 ,  2G059DD17 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ25 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
  • US6,721,051
  • 光検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-211238   Applicant：古河電気工業株式会社
  • 光散乱検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-206626   Applicant：株式会社島津製作所
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Cited by examiner (7)
  • 光検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-211238   Applicant：古河電気工業株式会社
  • 光散乱検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-206626   Applicant：株式会社島津製作所
  • 特開平4-278438
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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