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J-GLOBAL ID：201003087321146206

シリコン含有膜堆積用の前駆体及びその製造及び使用方法

Inventor： ハンソン チェン ,  マンチャオ シャオ ,  ガウリ サンカー ラル ,  トーマス リチャード ガフニー ,  チェンガン チョウ ,  ジンピン ウー
Applicant, Patent owner： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
Agent (6)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  小林 良博 ,  蛯谷 厚志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009184479
Publication number (International publication number)：2010043081
Application date： Aug. 07, 2009
Publication date： Feb. 25, 2010
Summary：

【課題】シリコン含有膜を堆積させるためのアミノシラン前駆体、およびこれらのアミノシラン前駆体からシリコン含有膜を堆積させる方法を提供すること。【解決手段】シリコン含有膜を堆積させるための次式(I): (R1R2N)nSiR34-n (I)(式中、置換基R1およびR2はそれぞれ独立にC1〜20のアルキル基およびC6〜30のアリール基から選択され、置換基R1およびR2の少なくとも1つはF、Cl、Br、I、CN、NO2、PO(OR)2、OR、RCOO、SO、SO2、SO2Rから選択される電子吸引性置換基を含み、そしてR3はH、C1〜20のアルキル基、又はC6〜12のアリール基から選択され、そしてnは1〜4の範囲の数である。)から成るアミノシラン前駆体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

次式(I): (R1R2N)nSiR34-n (I) (式中、置換基R1およびR2はそれぞれ独立に1〜20個の炭素原子を含むアルキル基および6〜30個の炭素原子を含むアリール基から選択され、 置換基R1およびR2の少なくとも1つはF、Cl、Br、I、CN、NO2、PO(OR)2、OR、RCOO、SO、SO2、SO2Rから選択される少なくとも1つの電子吸引性置換基を含みそして少なくとも1つの電子吸引性置換基におけるRはアルキル基又はアリール基から選択され、 R3はH、1〜20個の炭素原子を含むアルキル基、又は6〜12個の炭素原子を含むアリール基から選択され、そして nは1〜4の範囲の数である。) から成るシリコン含有膜を堆積させるためのアミノシラン前駆体。

IPC (3)：

C07F 7/02 ,  H01L 21/318 ,  C23C 16/42

FI (3)：

C07F7/02 Z ,  H01L21/318 B ,  C23C16/42

F-Term (30)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ39 ,  4H049VQ59 ,  4H049VR12 ,  4H049VR13 ,  4H049VR51 ,  4H049VR52 ,  4H049VU24 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA48 ,  4K030FA10 ,  4K030JA06 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030LA15 ,  5F058BC08 ,  5F058BC11 ,  5F058BF02 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BF54 ,  5F058BF55

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• ケイ素含有膜を付着させるための前駆体およびそのプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-015984   Applicant：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 循環堆積による金属ケイ素窒化物膜の調製
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-036223   Applicant：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 化学気相成長法によるシリコン窒化物膜またはシリコンオキシ窒化物膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-025479   Applicant：レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード

Cited by examiner (3)

• ケイ素含有膜を付着させるための前駆体およびそのプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-015984   Applicant：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 循環堆積による金属ケイ素窒化物膜の調製
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-036223   Applicant：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 化学気相成長法によるシリコン窒化物膜またはシリコンオキシ窒化物膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-025479   Applicant：レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

• Journal of Fluorine Chemistry, Vol.64, No.1-2, p.95-99 (1993).
• Phosphorus, Sulfur and Silicone and the Related Elements, Vol.79, No.1-4, p.65-68 (1993).
• Synlett, No.10, p.1617-1619 (2001).
• Chemical Abstracts, Vol.86, No.21, p.482 (1977).
• Chemical Abstracts, Vol.80, No.3, p.440 (1974).
• Synthesis and Reactivity in Inorganic and Metal-Organic Chemistry, Vol.33, No.10, p.1825-1834 (2003).
• Main Group Metal Chemistry, Vol.24, No.7, p.409-411 (2001).
• Tetrahedron, Vol.62, No.17, p.4071-4080 (2006).
• Tetrahedron Letters, No.23, p.1987-1990 (1977).
• Journal of Organometallic Chemistry, Vol.14, p.103-107 (1968).

Cited by examiner (16)

• Journal of Fluorine Chemistry, Vol.64, No.1-2, p.95-99 (1993).
• Phosphorus, Sulfur and Silicone and the Related Elements, Vol.79, No.1-4, p.65-68 (1993).
• Synlett, No.10, p.1617-1619 (2001).
• Chemical Abstracts, Vol.86, No.21, p.482 (1977).
• Chemical Abstracts, Vol.80, No.3, p.440 (1974).
• Synthesis and Reactivity in Inorganic and Metal-Organic Chemistry, Vol.33, No.10, p.1825-1834 (2003).
• Main Group Metal Chemistry, Vol.24, No.7, p.409-411 (2001).
• Tetrahedron, Vol.62, No.17, p.4071-4080 (2006).
• Tetrahedron Letters, No.23, p.1987-1990 (1977).
• Journal of Organometallic Chemistry, Vol.14, p.103-107 (1968).
• Synlett, No.10, p.1617-1619 (2001).
• Chemical Abstracts, Vol.86, No.21, p.482 (1977).
• Chemical Abstracts, Vol.80, No.3, p.440 (1974).
• Synthesis and Reactivity in Inorganic and Metal-Organic Chemistry, Vol.33, No.10, p.1825-1834 (2003).
• Main Group Metal Chemistry, Vol.24, No.7, p.409-411 (2001).
• Tetrahedron Letters, No.23, p.1987-1990 (1977).