スペクトル・時間励起成形によるコヒーレント・ラマン顕微鏡法における選択的検出およびイメージングのためのシステムおよび方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：吉田研二 , 石田純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010013744
Publication number (International publication number)：2010169686
Application date： Jan. 26, 2010
Publication date： Aug. 05, 2010
Summary：

【課題】改善された感度および特定性を提供する顕微鏡イメージング・システムを提供する。【解決手段】光源システム、スペクトル成形器、変調器システム、光学システム、光学検出器、および処理装置を含む顕微鏡イメージング・システムが開示される。光源システムは、第1のパルス列と第2のパルス列を提供するためのものである。スペクトル成形器は、広帯域範囲の周波数成分の少なくともいくつかの周波数成分の光学特性をスペクトル的に修正して、前記広帯域範囲の周波数成分を成形し、成形された第1のパルス列を生成して、試料から対象のスペクトル特徴を明確に検査しかつ試料から対象でない特徴から情報を減少させるようにするためのものである。変調器システムは、成形された第1のパルス列と第2のパルス列の少なくとも一方の特性を変調周波数で変調するためのものである。光学検出器は、共通焦点体積内で透過または反射された対象のパルス列の実質的にすべての光学周波数成分の積分強度を検出するためのものである。処理装置は、共通焦点体積内で変調されるような成形された第1のパルス列と第2のパルス列との非線形干渉による対象パルス列の実質的にすべての光学周波数成分の積分強度の変調周波数での変調を検出し、顕微鏡イメージング・システム用の画像の画素の出力信号を提供するためのものである。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

顕微鏡イメージング・システムであって、第1の広帯域範囲の周波数成分を含む第1のパルス列と、第2の光学周波数を含む第2のパルス列とを提供して、前記第1の広帯域範囲の周波数成分と前記第2の光学周波数の1組の差が、焦点体積内の試料の1組の振動周波数と共鳴し、前記第2のパルス列が、前記第1のパルス列と同期するようにするための光源システムと、前記広帯域範囲の周波数成分のうちの少なくともいくつかの周波数成分の光学特性をスペクトル的に修正して、前記広帯域範囲の周波数成分が、成形された第1のパルス列を生成するように形成されて、試料から対象のスペクトル特徴を明確に検査し、かつ前記試料から対象でない特徴からの情報を減少させるためのスペクトル成形器と、前記成形された第1のパルス列と前記第2のパルス列の少なくとも一方の特性を変調周波数で変調して、変調されたパルス列を提供するための変調器システムと、前記成形された第1のパルス列と前記第2のパルス列を共通焦点体積の方に変調されるように導き集中させるための光学システムと、前記共通焦点体積内に透過または反射された対象パルス列の実質的にすべての光学周波数成分の積分強度を検出するための光学検出器と、前記共通焦点体積内で変調されたような前記成形された第1のパルス列と前記第2のパルス列との前記非線形干渉による前記対象パルス列の実質的にすべての前記光学周波数成分の前記積分強度の前記変調周波数の変調を検出し、前記顕微鏡イメージング・システム用の画像の画素の出力信号を提供するための処理装置と、を含む顕微鏡イメージング・システム。

IPC (1)：

G01N 21/65

FI (1)：

G01N21/65

F-Term (23)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043EA04 , 2G043FA01 , 2G043FA02 , 2G043GA01 , 2G043GA02 , 2G043GB01 , 2G043GB19 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA06 , 2G043HA07 , 2G043HA09 , 2G043JA02 , 2G043JA04 , 2G043KA01 , 2G043KA07 , 2G043KA08 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G043MA01 , 2G043NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

シングルパルスアンチストークスラマン散乱顕微鏡法および分光法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-502625 Applicant：イエダリサーチアンドディベロプメントカンパニーリミテッド
特表平6-503245
粒子分析装置および粒子分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-208808 Applicant：富士フイルム株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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