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J-GLOBAL ID:201003089415884947
質量分析データ処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小林 良平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009114261
Publication number (International publication number):2010261882
Application date: May. 11, 2009
Publication date: Nov. 18, 2010
Summary:
【課題】顕微質量分析により収集されたMSイメージングデータに対する統計的な解析処理により、試料を特徴付けるm/zの分布などの有用な情報を提供しつつ、その解析結果の信頼度などをユーザが容易に評価・検証できるようにする。【解決手段】試料上の2つの関心領域に含まれる画素のMSイメージングデータに対し統計的仮説検定を実施してm/z毎のp値を算出し、p値が設定された有意水準以上となるm/zを求める。この特定のm/zにおけるp値、該m/zにおける二次元強度分布画像、該m/z付近の平均マススペクトル拡大図、該m/zの強度分布を示す箱髭図、正規確率プロット図などを同一の解析画面内に表示するとともに、実測による平均マススペクトルにおけるm/z付近のピークが理論的な同位体ピーククラスタに適合するか否かを示す指標値を算出し、それを同じ画面内に表示し、検定結果の信頼度の検証に利用できるようにする。【選択図】図2
Claim (excerpt):
試料上の二次元領域内に設定された複数の微小領域に対する質量分析を実行可能な質量分析装置により収集されたデータを処理する質量分析データ処理装置であって、
a)二次元領域内に含まれる複数の微小領域に対するマススペクトルデータに対する統計的仮説検定又は多変量解析を行う解析演算手段と、
b)前記解析演算手段による解析により特定された質量電荷比のピークが同位体ピーククラスタに属するものである可能性を調べ、その可能性を表す指標値を算出する同位体ピーク判定手段と、
c)前記解析演算手段による解析結果を示すグラフ表示、その解析により特定された質量電荷比におけるピーク強度の二次元分布を示すグラフ表示、その質量電荷比付近の所定の質量電荷比範囲のマススペクトルを示すグラフ表示、及び、前記同位体ピーク判定手段により算出された指標値、が配置された表示画面を作成する表示処理手段と、
を備えることを特徴とする質量分析データ処理装置。
IPC (1):
FI (2):
G01N27/62 D
, G01N27/62 Y
F-Term (11):
2G041CA01
, 2G041DA03
, 2G041EA01
, 2G041FA10
, 2G041FA21
, 2G041GA06
, 2G041GA08
, 2G041JA06
, 2G041LA07
, 2G041MA04
, 2G041MA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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質量分析データの分析法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-509605
Applicant:メルクエンドカムパニーインコーポレーテッド
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質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-191654
Applicant:株式会社島津製作所
-
クロマトグラフィー質量分析の分析結果表示方法及び表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-220617
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
構造解析システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-087008
Applicant:株式会社島津製作所
-
質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-191775
Applicant:株式会社島津製作所
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