セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：渡邉一平 , 木川幸治 , 菅野重慶 , 佐藤博幸 , 小池成
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009511295
Publication number (International publication number)：2010506699
Application date： Oct. 18, 2007
Publication date： Mar. 04, 2010
Summary：

少ない成膜回数で形成され、欠陥が少なく、膜厚が薄く均一なセラミック多孔質膜の製造方法及びそのセラミック多孔質膜を含むセラミックフィルタの製造方法を提供する。多孔質基材(11)上に、その多孔質基材(11)よりも平均細孔径の小さいUF膜(14)を形成し、そのUF膜(14)上に、セラミックゾル(40)を付着させ、そのセラミックゾル(40)を送風によって乾燥し、その後焼成することにより、UF膜(14)よりも平均細孔径が小さいセラミック多孔質膜(1)を形成する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

基材の表面上にセラミックゾルを付着させ、前記セラミックゾルを乾燥し、その後焼成することによりセラミック多孔質膜を形成するセラミック多孔質膜の製造方法において、前記セラミックゾルを付着させた前記表面上に沿うように接触させつつ送風することにより乾燥を行うセラミック多孔質膜の製造方法。

IPC (3)：

B01D 71/02 , B01D 69/10 , C04B 41/85

FI (3)：

B01D71/02 , B01D69/10 , C04B41/85 C

F-Term (12)：

4D006GA25 , 4D006HA77 , 4D006MA02 , 4D006MA09 , 4D006MA22 , 4D006MB01 , 4D006MC03X , 4D006NA46 , 4D006NA50 , 4D006NA64 , 4D006PA01 , 4D006PB32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

被覆された基質の乾燥方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-545645 Applicant：エンゲルハード・コーポレーシヨン
排ガス浄化フィルタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-294990 Applicant：株式会社デンソー
特開昭55-023021

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