粒子線照射装置及び治療計画装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：高矢諭 , 松山圭佑 , 牧野剛博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008197706
Publication number (International publication number)：2010029594
Application date： Jul. 31, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：

【課題】スキャニング照射における照射野半影帯を縮小し、正常組織への線量寄与を小さくする。【解決手段】粒子線をスキャニング照射するための粒子線照射装置において、複数のビーム形状を設定するためのビーム形状設定手段(コリメータ32、散乱体34、リッジフィルタ36)と、スキャニング途中でビーム形状を変更するための手段(コリメータ制御装置33、散乱体制御装置35、フィルタ制御装置37)と、を備え、スキャニングポイントに適したビーム形状を選択しながらスキャニング照射する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

粒子線をスキャニング照射するための粒子線照射装置において、複数のビーム形状を設定するためのビーム形状設定手段と、スキャニング途中でビーム形状を変更するための手段と、を備え、スキャニングポイントに適したビーム形状を選択しながらスキャニング照射することを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (2)：

A61N5/10 M , A61N5/10 P

F-Term (6)：

4C082AA01 , 4C082AC04 , 4C082AE01 , 4C082AG24 , 4C082AN05 , 4C082AR02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

粒子線治療装置及び治療計画装置及び荷電粒子ビーム照射方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-323426 Applicant：株式会社日立製作所
粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026564 Applicant：株式会社東芝
照射野形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-175604 Applicant：独立行政法人放射線医学総合研究所

Cited by examiner (4)

粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026564 Applicant：株式会社東芝
荷電粒子ビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-291460 Applicant：株式会社日立製作所
粒子線照射装置とその方法、およびリッジフィルタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-395544 Applicant：株式会社東芝

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