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J-GLOBAL ID：201102222448689495   Reference number：11A0795971

ノボラック系ポジ型レジストにおける現像特性のプリベーク温度依存性

Author (7)： ISHIGURO KEITA (金沢工大) ,  KONO AKIHIKO (金沢工大) ,  SEKIGUCHI ATSUSHI (リソテックジャパン) ,  TANIGUCHI KATSUHITO (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  TANAKA HATSUYUKI (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  HORIBE HIDEO (金沢工大) ,  HORIBE HIDEO (大阪大)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
Volume： 58th  Page： ROMBUNNO.24P-BJ-12  Publication year： Mar. 09, 2011 
JST Material Number： Y0054B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： novolac epoxy resin ,  resist ,  circuit pattern generation ,  development (photography) ,  *temperature dependence ,  *heat treatment
Semi thesaurus term： プリベーク ,  *positive resist

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： ノボラック ,  ポジ型レジスト ,  現像 ,  プリベーク ,  温度依存性