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J-GLOBAL ID：201102260619219025   Reference number：11A1393715

Effect of Nb Concentration on Thermal Diffusivity of Nb-Doped TiO₂ Films

NbドープTiO₂薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果

Author (7)： TASAKI CHIHIRO (青山学院大 大学院理工学研究科) ,  OKA NOBUTO (青山学院大 大学院理工学研究科) ,  YAGI TAKASHI (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  TAKETOSHI NAOYUKI (産業技術総合研) ,  BABA TETSUYA (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  KAMIYAMA TOSHIHISA (AGCセラミックス) ,  SHIGESATO YUZO (青山学院大 大学院理工学研究科)
Material： 熱物性  (日本熱物性学会会誌)
Volume： 25  Issue： 3  Page： 117-120  Publication year： Aug. 31, 2011 
JST Material Number： X0597A  ISSN： 0913-946X  CODEN： NEBUE4  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *thermal diffusivity ,  *dielectric thin film ,  *titanium oxide ,  doping ,  niobium ,  sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  multilayer ,  Molybdenum ,  firing (heat treatment) ,  concentration dependence ,  additive effect ,  scattering ,  measurement ,  *Thermal Diffusion ,  film thickness ,  transparent conducting thin films ,  X-Ray Diffraction ,  Microscopy ,  atomic force microscope ,  surface quality ,  phonon scattering ,  co-firing
Semi thesaurus term： thermoreflectance method ,  co-firing

JST classification (1)： Specific heat and thermal conduction in general  (BL05021E)

Reference (11)：

• TANAKA, A. Thin Solid Films. 2010, 518, 2934
• FURUBAYASHI, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 252101
• SATO, Y. Thin Solid Films. 2008, 516, 5758
• SATO, Y. J. Vac. Sci. Technol. A. 2010, 28, 851
• HITOSUGI, T. Appl. Phys. Express. 2008, 1, 111203

Terms in the title (6)： Nb ,  ドープ ,  TiO2 ,  薄膜 ,  熱拡散率 ,  添加効果